涂覆

晶圆表面光刻胶的涂覆与刮边工艺的研究

随着半导体器件的应用范围越来越广，晶圆制造技术也得到了快速发展。其中，光刻技术「链接」在晶圆制造过程中的地位尤为重要。光刻胶是光刻工艺中必不可少的材料，其质量直接影响到晶圆生产的效率和质量。本文将围绕着晶圆表面光刻胶的涂覆与刮边工艺展开研究，旨在进一步完善这一