压印光刻资讯

10nm以下！国产首台自研半导体级纳米压印光刻系统交付

纳米压印光刻（NIL）是与极紫外（EUV）光刻系统完全不同的技术路径，传统光刻是通过光学投影将电路图案转移到涂有光刻胶的晶圆上，而纳米压印光刻（NIL）是一种基于机械转移原理的微纳加工技术，像盖章一样，使用模板通过机械力将图案直接压印到涂有压印胶的晶圆表面，无

2025年8月1日，由璞璘科技自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备顺利通过验收并交付至国内特色工艺客户。