真假探究：网传新凯来将突破3纳米芯片技术是谣言吗？新凯来网传突破3纳米芯片技术，真假难辨？网传新凯来3纳米芯片技术突破，是真是假？新凯来3纳米芯片技术网传突破，到底是真还是假？真假之辨：网传新凯来突破3纳米芯片技术，属实吗？摘要：真假探究：网传新凯来将突破3纳米芯片技术是谣言吗？新凯来网传突破3纳米芯片技术，真假难辨？网传新凯来3纳米芯片技术突破，是真是假？新凯来3纳米芯片技术网传突破，到底是真还是假？真假之辨：网传新凯来突破3纳米芯片技术，属实吗？
近两日，网络上各种信息漫天飞传，称一家成立仅三年有余、鲜为人知的“新凯来”公司，打算开发适用于3纳米以下制程的下一代设备。笔者在网络上进行了多番查证，却未能发现任何官方媒体有关3纳米技术的确切资讯，就连5纳米和7纳米的信息也未曾找到。其中大部分都是自媒体臆测编造的虚假信息，新凯来公司也未曾发布确切的公告，表明自己有进行研发生产或者计划研发何种纳米的芯片技术内容。
笔者同样谨慎地从多个方面对消息予以验证，具体如下：
“深圳市新凯来技术有限公司”位于深圳龙岗区平湖街道新凯来园区，在2025年3月26日开幕的SEMICON China 2025展会上，该公司首次公开亮相，一次性推出了31款设备，这些设备覆盖了半导体制造的全流程，可分为工艺装备和量检测装备两大类，吸引了众人的目光。
从企查查获取到的公司信息显示，该公司于2021年8月创立，注册资本达15亿，到现在已经过去了3年零7个月。
1、展会设备和官网产品之间存在何种关联。
在半导体这一领域，就公司目前在官网所公开的信息来看，仅仅有4款IGBT测试设备（RATE系列）。这些设备聚焦于后道测试这一环节，其主要用途为对功率半导体模块进行检测，是细分领域中的设备。SEMICON China 2025展会上推出的31种设备，包含前道工艺（像EPI外延、ETCH刻蚀、ALD原子层沉积之类）以及量检测装备，这些设备能确切地与第三代半导体材料和先进制程（例如7nm以下）相匹配。初步得到的验证结论为：不管是官方网站，还是展会的官方报道，都没有提及3nm制程方面的相关技术。2、【3纳米】技术取得突破，其可信度如何？
技术路线方面，新凯来提议借助“新材料、先进光刻技术与非光补光技术、3D架构”来应对先进制程面临的挑战，同时还开发出了像多重图形曝光、选择性沉积这类技术。在国际上，这些技术处于前沿领域，不过，目前还没有公开的客户验证或者量产数据能够表明其具备适配3nm的能力。行业比较：在全球范围内，当下仅有台积电和三星实现了3nm工艺的量产，并且这一成果是依赖于ASML EUV光刻机达成的。新凯来并没有展示与光刻机有关的设备，其采用的非光学技术（例如自对准四重成像技术）或许是避开EUV限制的一种替代手段，不过这种技术的实际成效还存在疑问。根据专家的看法：SEMI报告显示，到2025年，中国在计算芯片设备方面的投资会达到380亿美元，不过国内的设备大多集中于成熟的制造工艺，在先进节点上依旧有待突破。初步的验证结果表明：网络上所传新凯来将达成3nm设备突破这一消息，并非事实。光刻机核心部件的研发工作。
有传闻称奥普光电存在合作事宜：网络上有消息表明新凯来和奥普光电在光刻机曝光系统的研发上展开合作，不过双方都未曾公开表态。奥普光电的母公司长春光机所曾经参与过国家的光刻机专项，如果该合作是真实的，那么这或许是一个保密项目，不过还需要通过供应链或者专利交叉申请的信息来进行验证。技术的可行性方面：光刻机的研发需要长达数十年的经验积累。新凯来创立至今仅仅三年，要是没有借助外部已经成熟的团队（例如从华为剥离出来的技术资产），在短期内实现突破的可能性微乎其微。华为的SAQP专利合作情况。
在2025年3月之前，经在中国国家知识产权局进行专利检索发现，并没有查询到新凯来和华为共同申请的SAQP（自对准四重成像）专利。华为以前的专利大多聚焦于芯片设计，在与设备制造的协同方面存在一定的局限性，所以此次合作的真实性令人怀疑。1、订单猛增的合理性。
PVD设备的验证情况如下：有网络消息表明，新凯来的PVD设备（普陀山系列）正在国内的晶圆厂进行验证，不过具体的客户名称以及订单数量并没有被公布出来。和北方华创、中微公司等国内的厂商相比，这些厂商的设备要实现量产需要经历2 - 3年的验证周期。新凯来要是想在2025年达成“订单激增”的情况，那就得拿出客户反馈或者财报数据来作为支撑。网上的信息还表明，新凯来的发布会能让产业链中的个股（例如新莱应材）达到涨停。不过，股价的波动往往是受市场情绪所推动的，所以它无法直接体现技术实力。全球化拓展面临着诸多挑战。
技术阻碍：在国际半导体设备市场当中，被应用材料（AMAT）、ASML之类的巨头所垄断。新凯来要是想进军东南亚以及欧洲地区，那就得应对技术认证、专利诉讼以及客户信任等诸多方面的阻碍。就目前而言，其海外研发中心的布局（比如尚未公开具体的国家）还没有展现出全球化的能力。核心争议点验证结果可靠性评级3nm设备技术突破技术路径合理但缺乏客户验证，需晶圆厂量产数据支持待验证（黄灯）光刻机核心部件合作研发无官方声明或专利佐证，依赖保密项目的可能性较低存疑（红灯）华为SAQP专利合作未检索到相关专利，合作真实性存疑存疑（红灯）订单激增与全球化进展合理推测但需官方数据支撑，股价波动不足为凭谨慎乐观（黄灯）1、对待网传信息要谨慎：新凯来所展示的技术发展方向（像非光补光、AI调优这些）是契合行业发展趋势的，不过网传其在3nm技术上的突破需要长时间的沉淀，在短期内，应当关注新凯来28nm/14nm设备的量产情况。
2、对核心合作与专利进行验证：推荐采用如下方式做进一步的核实：
查询与新凯来相关联的公司（例如深芯恒科技）的专利布局情况。对中芯国际、长江存储等客户的设备采购公告予以追踪。将关注点放在SEMICON展会现场客户的评测反馈上。3、在长期的生态建设观察中发现：半导体设备必须与材料、工艺紧密结合。若新凯来意图打破国际垄断局面，那就需要构建起“设备 - 工艺 - 材料”的闭环，而不能仅仅进行单点突破。
新凯近期新推出的技术确实值得认可，然而网络上所传的3nm宣言，到目前为止还没有在任何官方媒体的通告或者新闻里找到能够证实此事的依据。希望大家保持警惕，具备辨别是非的能力，不要轻信谣言、传播不实信息，所有的事情都有待时间和数据来进行验证。
任何消息都应当以官方发布的为准，大家要自行通过搜索官方媒体来获取可靠的资讯。
来源：高级清泉JF7HiC7
