摘要：在即将召开的国际固态电路会议（ISSCC）上，三星电子将揭开其最新的第10代3D NAND Flash的神秘面纱。这款NAND Flash采用了超过400层的堆叠技术，数据传输速度高达5.6 GT/s，标志着三星在存储技术领域的又一次重大突破。

在即将召开的国际固态电路会议（ISSCC）上，三星电子将揭开其最新的第10代3D NAND Flash的神秘面纱。这款NAND Flash采用了超过400层的堆叠技术，数据传输速度高达5.6 GT/s，标志着三星在存储技术领域的又一次重大突破。

据悉，这款V-NAND Flash依然沿用了TLC（三级单元）架构，每个单元的存储能力达到3位，而单个芯片的存储容量则达到了惊人的1Tb（即128GB）。三星方面表示，这款超400层3D TLC NAND Flash的存储密度高达28 Gb/mm²，尽管略低于其目前存储密度最高的1Tb 3D QLC V-NAND（28.5 Gb/mm²），但仍处于行业领先地位。

在接口速度方面，三星第10代V-NAND的表现尤为抢眼。其5.6 GT/s的接口速度不仅远超同类产品，如长江存储的3.6 GT/s，更在数据传输速率上实现了质的飞跃。在如此高速的接口支持下，数据传输速率可达约700 MB/s，这意味着仅需10个这样的设备，就能使PCIe4.0 x4接口达到饱和状态；而如果使用20个设备，则足以让PCIe5.0 x4这一超高速接口也满载运行。

据相关媒体报道，三星计划在ISSCC 10大会上正式推出这款第10代V-NAND。考虑到三星在新技术研发与量产方面的快速推进能力，业界普遍预计这款NAND Flash有望在明年正式投入批量生产。然而，关于这款新技术何时会应用到三星自家的SSD产品中，目前尚无确切消息。

无论如何，三星第10代V-NAND的推出无疑将进一步提升三星在存储市场的竞争力。随着数据量的不断增长和存储需求的日益多样化，高性能、高密度的存储解决方案正成为市场的迫切需求。三星此次推出的超400层3D TLC NAND Flash，无疑为市场提供了更多的选择和可能性。

来源：ITBear科技资讯