摘要：光刻胶（Photoresist）是一种用于半导体制造中的关键材料，它在光刻工艺中起到了重要的作用。光刻胶是一种特殊的敏化树脂，能够对紫外光或电子束等辐射进行化学反应，形成可控的图案。

光刻胶（Photoresist）是一种用于半导体制造中的关键材料，它在光刻工艺中起到了重要的作用。光刻胶是一种特殊的敏化树脂，能够对紫外光或电子束等辐射进行化学反应，形成可控的图案。

特别声明：以下内容绝不构成任何投资建议、引导或承诺，仅供学术研讨。

主营业务：半导体及显示面板光刻胶、特种橡胶助剂
细分领域：ArF高端光刻胶国产化主力
概念关联：大基金三期重点标的 + RISC-V芯片材料供应商
核心亮点：

主营业务：g/i线光刻胶、超净高纯试剂
细分领域：半导体封装材料龙头
概念关联：华为供应链认证 + 先进封装概念
核心亮点：

来源：泽泽称奇一点号