摘要：值得注意的是，我国半导体设备销售额与国产化率持续攀升。据日本半导体制造装置协会数据，2013 年起中国内地销售额总体逐年递增，2024 年超 495 亿美元，2012 - 2024 年复合增速超 28%；2024 年其全球市场份额首破 40%，较上年增加近 8

近年来，我国半导体供应链稳定性遭受冲击，产业链协同面临挑战。在此情形下，掌握先进半导体技术、达成半导体自主可控，对保障国家信息与经济安全意义非凡。

值得注意的是，我国半导体设备销售额与国产化率持续攀升。据日本半导体制造装置协会数据，2013 年起中国内地销售额总体逐年递增，2024 年超 495 亿美元，2012 - 2024 年复合增速超 28%；2024 年其全球市场份额首破 40%，较上年增加近 8 个百分点。

概念关联：国家大基金持股的光刻胶原材料供应商，产品覆盖光刻胶用酚醛树脂、环氧树脂等关键材料。 亮点优势：国内唯一实现光刻胶用电子级酚醛树脂量产的企业，产品已通过中芯国际认证。承担"02专项"光刻胶配套材料国产化项目，与上海新阳建立联合实验室开发高端光刻胶树脂。

概念关联：专注PCB光刻胶，并向半导体光刻胶延伸，产品包括g/i线光刻胶及配套试剂。 亮点优势：国内PCB光刻胶标准制定者，军工领域市占率超60%。与中科院微电子所合作开发KrF光刻胶，已通过三安光电验证。龙南基地实现光刻胶全产业链布局。

概念关联：覆盖半导体、面板、PCB全领域光刻胶，ArF光刻胶进入客户验证阶段。 亮点优势：国内首家实现KrF光刻胶量产的企业，G线光刻胶市占率超70%。引进ASML光刻机建立完整测试平台，TFT-LCD光刻胶打破国外垄断。

概念关联：光刻胶专用化学品龙头，产品包括光引发剂、树脂等核心原料。 亮点优势：全球光刻胶原料核心供应商，客户涵盖JSR、TOK等国际巨头。独创"光酸+树脂"分子设计技术，专利数量行业第一。

概念关联：光刻胶用电子级溶剂供应商，产品包括丙二醇甲醚醋酸酯（PMA）等。 亮点优势：国内电子级溶剂纯度最高（99.999%），中芯国际一级供应商。开发出极紫外（EUV）光刻胶专用溶剂，技术指标达国际先进水平。

概念关联：光刻胶配套设备厂商，产品包括涂胶显影设备、清洗设备等。 亮点优势：国内唯一实现前道涂胶显影设备量产的企业，28nm制程设备已导入长江存储。与东京电子建立技术合作，突破多重曝光工艺设备瓶颈。

概念关联：电镀液及光刻胶配套试剂供应商，产品包括显影液、剥离液等。 亮点优势：中芯国际战略供应商，开发出DUV光刻胶专用显影液。独创"纳米过滤"纯化技术，金属杂质控制达PPT级。

概念关联：光刻胶用高纯臭氧发生器供应商，保障光刻工艺洁净度。 亮点优势：突破1ppb级超高纯臭氧技术，设备用于长江存储、合肥长鑫等产线。开发出光刻胶残留物分解专用臭氧系统。

概念关联：光刻胶及前驱体材料供应商，产品包括旋涂绝缘介质（SOD）等。 亮点优势：收购韩国UP Chemical实现前驱体技术突破，产品用于三星3D NAND产线。国家大基金重点扶持企业，承担多个02专项课题。

概念关联：光刻胶溶剂供应商，产品包括丙二醇甲醚（PM）等。 亮点优势：国内产能最大的电子级PM生产企业，纯度达SEMI G5标准。与彤程新材建立联合实验室，开发出KrF光刻胶专用溶剂配方。

来源：题材韬略