摘要：专利摘要显示，本申请涉及一种光学元件(10),具有光线进入光学元件(10)的第一大面和光线离开光学元件(10)的第二大面，该光学元件(10)包括：第一区域(E1)和第二区域(E2)，其中第一区域(E1)由具有第一折射率(N1)的透明材料组成，第二区域(E2)由

金融界2025年5月7日消息，国家知识产权局信息显示，矽光学有限公司申请一项名为“光学元件及其制造方法和发光装置”的专利，公开号 CN119948387A，申请日期为 2023 年 12 月。

专利摘要显示，本申请涉及一种光学元件(10),具有光线进入光学元件(10)的第一大面和光线离开光学元件(10)的第二大面，该光学元件(10)包括：第一区域(E1)和第二区域(E2)，其中第一区域(E1)由具有第一折射率(N1)的透明材料组成，第二区域(E2)由至少 50％的具有第二折射率(N2)的不透明材料和至多 50％的反射或白色散射材料组成，其中，第一折射率(N1)大于第二折射率(N2)，使得照射到光学元件(10)第一大面上的光至少部分通过第一区域(E1)的光入射面进入光学元件(10)或照射到反射或白色散射的第二区域(E2)上，并且 a)在第一区域(E1)内传播或完全反射，随后在光出射面重新耦出，或 b)从第一区域(E1)折射到相邻的第二区域(E2)并在该区域被吸收，或由于第二区域(E2)的反射或白色散射材料而被反射或散射。由此，相对于照射到光学元件(10)上的光，从光学元件(10)的第二大面上离开的光在其传播方向上受到限制，其中，照射到第二区域(E2)上的光至少有一部分被反射或散射。

来源：金融界