摘要：半导体清洗设备是半导体制造过程中的关键设备，其主要功能是去除硅片制造、晶圆制造和封装测试过程中可能存在的各种杂质，如颗粒、自然氧化层、金属污染、有机物、牺牲层、抛光残留物等，以避免这些杂质影响芯片的良率和产品性能。随着芯片制造工艺的不断进步，对晶圆表面污染物的

半导体清洗设备是半导体制造过程中的关键设备，其主要功能是去除硅片制造、晶圆制造和封装测试过程中可能存在的各种杂质，如颗粒、自然氧化层、金属污染、有机物、牺牲层、抛光残留物等，以避免这些杂质影响芯片的良率和产品性能。随着芯片制造工艺的不断进步，对晶圆表面污染物的控制要求越来越高，清洗步骤在芯片制造工序中占据了相当大的比例，约占所有芯片制造工序步骤的30%以上。

半导体清洗技术主要分为湿法清洗和干法清洗两种。湿法清洗是目前的主流技术路线，占芯片制造清洗步骤数量的90%以上。湿法清洗利用特定的化学药液和去离子水，通过化学反应去除晶圆表面的杂质。干法清洗则不依赖化学试剂，主要采用等离子体清洗等技术。

中国半导体清洗设备行业的发展得益于国家层面的政策支持和战略推动，特别是在国家集成电路产业投资基金（俗称“大基金”）的引领下，行业获得了显著的资金和资源投入。大基金的设立旨在推动国内半导体产业的整体技术进步和产业升级，重点支持包括半导体清洗设备在内的关键设备和材料领域的发展。

本文节选自华经产业研究院发布的《2024年全球及中国半导体清洗设备行业发展趋势，随着国产设备质量和性能得到验证，国内晶圆厂将更倾向采用国产设备「图」》，如需获取全文内容，可进入华经情报网搜索查看。

中国半导体清洗设备行业的产业链结构从上游到下游依次包括原材料和零部件供应、中游的清洗设备设计与制造、以及下游的IC制造等应用领域。上游环节主要涉及气路系统、控制系统、照明系统、安全保护装置等关键零部件和系统的供应；中游环节则专注于半导体清洗设备的设计和制造，包括管路系统、恒温系统、排风系统等核心组件的集成；下游环节是清洗设备的终端应用，主要服务于IC制造等半导体生产过程，确保芯片制造过程中的清洁度要求得到满足。

随着半导体市场的扩大，对芯片的需求量增加，这直接推动了对半导体制造设备，包括清洗设备的需求增长。市场规模的扩大促使半导体制造工艺不断进步，对清洗设备的技术要求也越来越高，推动了清洗技术的创新和升级。全球市场的增长为中国等地区的本土清洗设备制造商提供了发展机遇，加速了国产替代进口的进程。

华经产业研究院为助力企业、科研、投资机构等单位了解半导体清洗设备行业发展态势及未来趋势，特重磅推出《2025-2031年中国半导体清洗设备行业发展前景预测及投资规划建议报告》，本报告由华经产业研究院研究团队对半导体清洗设备行业进行多年跟踪研究，使用桌面研究与定量调查、定性分析相结合的方式，全面解读半导体清洗设备行业市场发展现状、上下游产业、竞争格局及重点企业等相关因素；科学运用研究模型，多维度对行业投资风险进行评估后精心研究编制。

报告目录：

第1章半导体清洗设备行业界定及发展环境剖析

1.1 半导体清洗设备行业界定及统计说明

1.1.1 半导体清洗设备在半导体产业链中的地位

1.1.2 半导体清洗设备的界定与工作原理

（1）半导体清洗设备的界定

（2）半导体清洗设备工作原理

（3）半导体清洗设备的分类

1.1.3 本行业关联国民经济行业分类

1.1.4 本报告行业研究范围的界定说明

1.1.5 本报告的数据来源及统计标准说明

1.2 中国半导体清洗设备行业政策环境

1.2.1 行业监管体系及机构介绍

1.2.2 行业标准体系建设现状

（1）现行标准汇总

（2）重点标准解读

1.2.3 行业发展相关政策规划汇总及解读

（1）行业发展相关政策汇总

（2）行业发展相关规划汇总

1.2.4 行业重点政策规划解读

1.2.5 政策环境对行业发展的影响分析

1.3 中国半导体清洗设备行业经济环境

1.3.1 宏观经济发展现状

1.3.2 宏观经济发展展望

1.3.3 行业发展与宏观经济相关性分析

1.4 中国半导体清洗设备行业社会环境

1.4.1 中国人口规模及结构

1.4.2 中国城镇化水平变化

1.4.3 中国居民收入水平及结构

1.4.4 中国居民消费支出水平及结构演变

1.4.5 中国消费新趋势

1.4.6 社会环境变化对行业发展的影响分析

1.5 中国半导体清洗设备行业技术环境

1.5.1 半导体清洗方法和工艺方案

（1）清洗方法分类

（2）半导体清洗技术——湿法清洗

（3）半导体清洗技术——干法清洗

1.5.2 半导体清洗设备技术创新动态

1.5.3 半导体清洗设备相关专利申请及公开情况

1.5.4 半导体清洗设备技术创新趋势

1.5.5 技术环境对行业发展的影响分析

第2章全球半导体清洗设备行业发展趋势及前景预测

2.1 全球半导体清洗设备行业发展历程及发展环境分析

2.1.1 全球半导体清洗设备行业发展历程

2.1.2 全球半导体清洗设备行业发展环境

2.2 全球半导体清洗设备行业供需状况及市场规模测算

2.2.1 全球半导体清洗设备行业供需状况

2.2.2 全球半导体清洗设备行业市场规模测算

2.3 全球半导体清洗设备行业区域发展格局及重点区域市场研究

2.3.1 全球半导体清洗设备行业区域发展格局

2.3.2 重点区域半导体清洗设备行业发展分析

（1）韩国

（2）美国

（3）日本

2.4 全球半导体清洗设备行业市场竞争状况分析

2.4.1 全球半导体清洗设备行业市场竞争状况

2.4.2 全球半导体清洗设备企业兼并重组状况

2.5 全球半导体清洗设备行业发展趋势及市场前景预测

2.5.1 全球半导体清洗设备行业发展趋势预判

2.5.2 全球半导体清洗设备行业市场前景预测

第3章中国半导体清洗设备行业发展现状与市场痛点分析

3.1 中国半导体清洗设备行业发展历程及市场特征

3.1.1 中国半导体清洗设备行业发展历程

3.1.2 中国半导体清洗设备市场发展特征

3.2 中国半导体清洗设备行业进出口状况分析

3.2.1 中国半导体清洗设备行业进出口概况

3.2.2 中国半导体清洗设备行业进口状况

（1）行业进口规模

（2）行业进口价格水平

（3）行业进口产品结构

（4）行业主要进口来源地

（5）行业进口趋势及前景

3.2.3 中国半导体清洗设备行业出口状况

（1）行业出口规模

（2）行业出口价格水平

（3）行业出口产品结构

（4）行业主要出口来源地

（5）行业出口趋势及前景

3.3 中国半导体清洗设备行业市场供需状况

3.3.1 中国半导体清洗设备行业参与者类型及规模

3.3.2 中国半导体清洗设备行业参与者进场方式

3.3.3 中国半导体清洗设备行业市场供给分析

3.3.4 中国半导体清洗设备行业市场需求分析

3.3.5 中国半导体清洗设备行业价格水平及走势

3.4 中国半导体清洗设备行业市场规模测算

3.5 中国半导体清洗设备行业市场痛点分析

第4章中国半导体清洗设备行业竞争状态及市场格局分析

4.1 中国半导体清洗设备行业市场进入与退出壁垒

4.2 中国半导体清洗设备行业投融资、兼并与重组状况

4.2.1 中国半导体清洗设备行业投融资发展状况

4.2.2 中国半导体清洗设备行业兼并与重组状况

4.3 中国半导体清洗设备行业市场格局及集中度分析

4.3.1 中国半导体清洗设备行业市场竞争格局

4.3.2 中国半导体清洗设备行业国际竞争力分析

4.3.3 中国半导体清洗设备行业国产化发展现状

4.3.4 中国半导体清洗设备行业市场集中度分析

4.4 中国半导体清洗设备行业波特五力模型分析

4.5 中国半导体清洗设备细分产品市场结构分析

第5章中国半导体清洗设备产业链梳理及全景深度解析

5.1 半导体清洗设备产业链梳理及成本结构分析

5.1.1 半导体清洗设备产业链结构及生态体系

5.1.2 半导体清洗设备的组成结构

5.1.3 半导体清洗设备成本结构

5.2 中国半导体清洗设备行业上游供应市场解析

5.2.1 半导体清洗设备行业上游原材料类型

5.2.2 半导体清洗设备上游核心组件类型

5.2.3 半导体清洗设备上游供应状况分析

5.2.4 上游供应对半导体清洗设备行业发展的影响分析

5.3 半导体清洗设备行业设计市场

5.4 半导体制造发展前景及其半导体清洗设备的需求分析

5.4.1 半导体制造业发展现状

5.4.2 半导体制造业影响因素

5.4.3 半导体制造业发展前景

5.4.4 半导体制造业对清洗设备的需求趋势分析

第6章全球及中国半导体清洗设备代表性企业发展布局案例研究

6.1 中国半导体清洗设备代表性企业发展布局对比

6.2 全球半导体清洗设备行业代表性企业布局案例

6.2.1 日本Screen Semiconductor Solutions（迪恩士）

6.2.2 日本Tokyo Electron（东京电子）

6.2.3 美国Lam Research（泛林集团/拉姆研究）

6.2.4 美国KLA-Tencor（科天/磊半导体）

6.3 中国半导体清洗设备代表性企业发展布局案例

6.3.1 北方华创科技集团股份有限公司

（1）企业发展简况分析

（2）企业经营情况分析

（3）企业经营优劣势分析

6.3.2 北京屹唐半导体科技股份有限公司

（1）企业发展简况分析

（2）企业经营情况分析

（3）企业经营优劣势分析

6.3.3 沈阳芯源微电子设备股份有限公司

（1）企业发展简况分析

（2）企业经营情况分析

（3）企业经营优劣势分析

6.3.4 上海至纯洁净系统科技股份有限公司

（1）企业发展简况分析

（2）企业经营情况分析

（3）企业经营优劣势分析

6.3.5 盛美半导体设备（上海）股份有限公司

（1）企业发展简况分析

（2）企业经营情况分析

（3）企业经营优劣势分析

6.3.6 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司

（1）企业发展简况分析

（2）企业经营情况分析

（3）企业经营优劣势分析

第7章中国半导体清洗设备行业市场及投资策略建议

7.1 中国半导体清洗设备行业发展潜力评估

7.1.1 行业发展现状总结

7.1.2 行业影响因素总结

7.1.3 行业发展潜力评估

（1）行业生命发展周期

（2）行业发展潜力评估

7.2 中国半导体清洗设备行业发展前景预测

7.3 中国半导体清洗设备行业发展趋势预判

7.4 中国半导体清洗设备行业投资风险预警与防范策略

7.4.1 中国半导体清洗设备行业投资风险预警

7.4.2 中国半导体清洗设备投资风险防范策略

7.5 中国半导体清洗设备行业投资价值评估

7.6 中国半导体清洗设备行业投资机会分析

7.7 中国半导体清洗设备行业投资策略与建议

7.8 中国半导体清洗设备行业可持续发展建议

来源：华经情报网一点号