摘要:昂坤视觉于2017年在北京创建,致力于为化合物半导体、光电和集成电路产业提供光学测量和光学缺陷检测设备及解决方案。经过多年的研发和技术积累,具备光学系统设计、机器视觉及AI深度学习算法等研发能力,获得了国家级专精特新“小巨人”、北京市企业技术中心、ISO900
来源:雅时化合物半导体
昂坤视觉于2017年在北京创建,致力于为化合物半导体、光电和集成电路产业提供光学测量和光学缺陷检测设备及解决方案。经过多年的研发和技术积累,具备光学系统设计、机器视觉及AI深度学习算法等研发能力,获得了国家级专精特新“小巨人”、北京市企业技术中心、ISO9001质量管理体系认证等资质,是一家集研发、生产、销售、服务为一体的国家高新技术企业。
化合物产品介绍(如需了解公司集成电路设备,欢迎垂询,联系信息见后):
化合物无图形缺陷检测系列
E3500:SiC衬底/外延缺陷检测设备
E3500是检测SiC衬底和外延缺陷的全自动设备,具有BF/DF/PL通道,可以检测并分类Particle、Pit、Bump、Shallow scratch、PL-Black、Triangle、Carrot、Downfall、Micropipe、Stepbunching、Grain-boundary、SF、SSF、BPD等缺陷。兼容4"、6"、8"晶圆自动上下料。
E3200:GaN缺陷检测设备
E3200可以检测GaN单晶衬底以及Si基、SiC基和蓝宝石基GaN 外延片表面和PL缺陷,具有BF/DF/PL通道,可以检测并分类Particle、Pit、Bump、Scratch、Stain、Crack、PL-Black、Hex、Hexpit、Crescent、Crystal-Defect等表面及荧光缺陷。支持4"、6"、8"晶圆全自动检测。
E1000:化合物缺陷检测设备
E1000 可以检测GaAs/InP/LT/LN/Sapphire/MCT/Glass等衬底及外延片缺陷。具有BF/DF通道,可以检测并分类Particle、Pit、Bump、Scratch、Stain等缺陷,支持4"、6"、8"晶圆全自动检测。
E500: SiC宏观缺陷检测设备
可检测缺陷类型:
SiC衬底: Poly crystal, Crack, Edge chipping, Scratch, Hexagonal shape, Inclusion, Carbon residue, Micropipe, Stain, Poly type, Dislocation area.
SiC外延: Edge carbonize, Fog, Polishing lines, Edge chipping, Crack and micropipe, Poly crystal, Holder mark, Edge deposition.
化合物有图形缺陷检测系列
H2000:化合物图形检测设备
设备集成了BF和激光暗场检测线扫及可变倍率的面阵检测系统,最小精度可以到80nm;可用于AEI, ADI以及后续工艺缺陷检测
测量设备
SPI300:晶圆形貌测量设备
SPI300晶圆形貌测量设备是一款专门测量晶圆Bow、Warp、Thickness、TTV、LTV、Stress、TIR、LTIR、Sori等参数并且进行分选的设备。支持4"、6"、8"晶圆检测,覆盖晶圆厚度380微米--2000微米。
联系方式/Contact
邮箱:sales@akoptics.com
地址:北京市昌平区沙河镇昌平路97号7幢5层503-1室
来源:CSC化合物半导体