摘要：国家知识产权局信息显示，长飞（武汉）光系统股份有限公司申请一项名为“飞秒激光刻写的光纤光栅定位方法、定位装置及应用”的专利，公开号 CN 119105128 A，申请日期为2024年9月。

金融界2024年12月12日消息，国家知识产权局信息显示，长飞（武汉）光系统股份有限公司申请一项名为“飞秒激光刻写的光纤光栅定位方法、定位装置及应用”的专利，公开号 CN 119105128 A，申请日期为2024年9月。

专利摘要显示，本发明公开了飞秒激光刻写的光纤光栅的定位方法，对于飞秒激光刻写的光纤，通过向光纤的一端注入探测光，让所述探测光在纤芯中传播并在飞秒激光刻写的栅区上发生米氏散射，散射光从光纤包层的侧向泄露；通过识别侧向泄露的散射光的位置实现对飞秒激光刻写的栅区的定位。本发明通过在栅区上产生米氏散射并让散射光泄露出去，栅区的定位和识别的精度很高，而且光纤上的栅区的密度越高，由光纤光栅构成的传感器对外界的感知能力有更大地提升尤其适用于要求栅区密度高的应用场合。

来源：金融界