半导体工艺化学品:五家企业主营产品深度剖析

360影视 2024-12-21 21:07 3

摘要:在半导体产业的庞大体系中,工艺化学品犹如基石般不可或缺,是推动芯片制造不断发展进步的关键因素。随着全球数字化进程的加速,半导体市场需求持续攀升,半导体工艺化学品市场规模也随之稳步扩张,展现出极为广阔的发展前景。据相关数据显示,近年来全球半导体工艺化学品市场规模

在半导体产业的庞大体系中,工艺化学品犹如基石般不可或缺,是推动芯片制造不断发展进步的关键因素。随着全球数字化进程的加速,半导体市场需求持续攀升,半导体工艺化学品市场规模也随之稳步扩张,展现出极为广阔的发展前景。据相关数据显示,近年来全球半导体工艺化学品市场规模以年均复合增长率超 [X]% 的速度递增,至 [具体年份],其市场规模已达 [具体金额] 亿美元,在半导体产业整体规模中的占比愈发显著。

在这一蓬勃发展的市场中,飞凯材料、晶瑞电材、江化微、格林达、安集科技这五家公司堪称行业翘楚,凭借各自的核心技术与优质产品,在半导体工艺化学品领域占据了重要的一席之地。它们的产品广泛应用于半导体制造的各个关键环节,如光刻、蚀刻、清洗、电镀等,为芯片的高精度生产提供了坚实保障,对我国半导体产业的自主可控发展起到了强有力的支撑作用。

飞凯材料作为一家在材料领域颇具影响力的企业,其产品涵盖多个重要领域。在电子化学材料方面,湿电子化学品是其核心产品之一,这类化学品在半导体制造过程中扮演着极为关键的角色。在晶圆清洗环节,飞凯材料的湿电子化学品能够精准且高效地去除杂质,确保晶圆表面达到极高的质量标准,从而为后续芯片制造工序奠定坚实基础,有力地保障了芯片的性能与良率。在平板显示制造领域,该公司的湿电子化学品同样发挥着不可或缺的作用,广泛应用于清洗和蚀刻等关键工序,显著提升了显示面板的质量与产量。此外,飞凯材料还积极布局紫外固化材料领域,其产品在涂料和印刷等行业拥有广泛应用。在涂料领域,紫外固化涂料以其快速干燥、高硬度以及卓越的耐化学性等显著优势,被大量应用于家具、汽车、电子产品等表面涂装,极大地提高了生产效率,同时为产品提供了出色的防护与装饰效果。在印刷领域,紫外固化油墨能够实现高精度、高清晰度的印刷效果,在包装印刷、标签印刷等方面有着广泛应用,为产品包装增添了丰富的色彩与强烈的吸引力。

飞凯材料在光刻胶领域取得了令人瞩目的突破。其生产的光刻胶产品主要应用于面板和半导体领域,在面板光刻胶方面,公司成功拓展了众多客户,与行业内多家知名企业建立了紧密的合作关系,其产品在市场上得到了广泛认可与应用。在半导体光刻胶领域,飞凯材料展现出强大的技术研发实力,已成功开发出适用于 8 吋 / 12 吋晶圆制造的 Iline 光刻胶,并且能够根据客户的特定需求进行定制化生产,充分满足了不同客户的差异化需求。同时,公司还积极投入研发资源,致力于开发适用于 DUV 的底部抗反射层,并可根据客户需求灵活定制 n、k、Cp 等关键参数,进一步彰显了其在光刻胶技术领域的深厚造诣与领先地位。在先进封装材料领域,飞凯材料同样有着精心的布局与显著优势。公司生产的应用于先进封装领域的湿制程电子化学品,如显影液、蚀刻液、剥离液、电镀液等,产品种类丰富多样,能够全方位满足现有客户的多样化需求。其 Ultra Low Alpha Microball(ULA 锡合金微球)产品更是填补了国内空白,成功解决了国内先进封装用基板的 “卡脖子” 材料问题。该产品不仅能够覆盖全工艺领域和全合金材料,而且其球径可低至 50μm,在技术壁垒方面实现了重大突破,为我国先进封装技术的发展提供了强有力的支持。此外,飞凯材料的临时键合解决方案也已达到行业领先水平,能够全面满足客户工艺需求,并且在价格和供应链方面具备明显的竞争优势,在市场中占据了有利的竞争地位。

晶瑞电材的产品体系丰富多样,涵盖高纯化学品、光刻胶及配套材料、锂电池材料等多个重要系列。在半导体材料领域,其高纯化学品发挥着关键作用。例如,高纯双氧水、氨水和硫酸等产品,纯度均达到国际最高等级 G5,为半导体芯片制造过程中的清洗、蚀刻等关键工序提供了高纯度的化学试剂保障,能够有效去除晶圆表面的杂质与污染物,确保芯片制造的高精度与高质量。光刻胶及配套材料方面,晶瑞电材拥有全面的产品类型。从 I 线、G 线紫外正性光刻胶,到环化橡胶型负性光刻胶、化学增幅型光刻胶以及厚膜光刻胶等,广泛应用于半导体光刻工艺的不同环节,满足了从低端到高端芯片制造的多种需求。其 i 线光刻胶已成功进入中芯国际等国内头部 Fab 厂供应链,为国产芯片制造提供了有力支持。在锂电池材料领域,公司以 NMP 为核心产品,积极布局 SBR 和 CMC 等材料。NMP 作为一种重要的有机溶剂,在锂电池生产中主要用于正极涂布溶剂或导电剂浆料,对锂电池的性能与质量有着重要影响。随着新能源汽车行业的蓬勃发展,晶瑞电材的锂电池材料产品市场需求持续增长,为公司业绩增长提供了强劲动力。

晶瑞电材在技术创新方面成果显著。在光刻胶技术领域,公司不断加大研发投入,取得了一系列重要突破。其 KrF 光刻胶已完成中试,产品分辨率达到 0.25 - 0.13 µm 的先进水平,并已顺利进入客户测试阶段,为量产奠定了坚实基础。同时,公司积极布局 ArF 光刻胶研发工作,已全面启动相关项目,预计 2023 年有望实现量产,这将进一步提升公司在高端光刻胶领域的市场竞争力,填补国内高端光刻胶市场的部分空白。在高纯试剂方面,公司的双氧水、氨水达到国际 G5 等级,这一成果不仅标志着公司在高纯试剂生产技术上达到国际先进水平,也为我国半导体产业摆脱对国外高纯试剂的依赖提供了可能。在产能扩张方面,晶瑞电材同样积极进取。高纯硫酸项目一期(3 万吨)已正式投产,有效缓解了市场对高纯硫酸的部分需求;二期(6 万吨)也已达到预计可使用状态,进一步扩充了公司高纯硫酸的产能。年产 1200 吨集成电路关键电子材料项目已达到量产化初期,即将为市场提供更多高品质的集成电路关键材料。此外,公司在原有 2.5 万吨 / 年 NMP 生产及回收产能的基础上,拟投资建设 1 万吨 γ - 丁内酯(GBL)及 5 万吨电子半导体级 N - 甲基吡咯烷酮(NMP)扩建项目,以应对下游市场对 NMP 持续增长的需求,巩固公司在锂电池材料领域的市场地位。

江化微作为湿电子化学品领域的重要企业,其主营产品涵盖超净高纯试剂和光刻胶配套试剂。超净高纯试剂包含多种类型,如单碱、单酸、混酸蚀刻液、溶剂等,这些试剂在电子元器件微细加工过程中发挥着关键作用。其中,金属膜蚀刻液可精准地对金属膜进行蚀刻,去除不需要的金属部分,为芯片制造中的电路形成奠定基础;氨水、硝酸、氢氟酸、硫酸等酸碱性试剂则在清洗、蚀刻等工序中不可或缺,能够有效去除晶圆表面的杂质与污染物,确保晶圆表面的平整度和洁净度,以满足芯片制造对高精度的要求。光刻胶配套试剂主要有剥离液、显影液等,是光刻工艺中的重要组成部分。剥离液可在光刻完成后,将光刻胶从晶圆表面剥离,同时保证晶圆不受损伤;显影液则在曝光后,使光刻胶的图案得以显现,从而为后续的蚀刻、离子注入等工序提供精准的模板,确保芯片电路图案的精确形成。这些产品广泛应用于平板显示、半导体、光伏太阳能等领域。在平板显示领域,江化微的产品参与了从玻璃基板清洗到薄膜蚀刻等多个关键环节,有助于提升显示面板的分辨率、色彩饱和度和亮度等性能指标,为消费者带来更清晰、逼真的视觉体验;在半导体领域,其产品贯穿于芯片制造的全过程,从晶圆的初始清洗到最后的封装测试,对芯片的性能、良率和可靠性有着至关重要的影响,是半导体产业实现高精度、高性能芯片制造的关键支撑;在光伏太阳能领域,其产品可用于太阳能电池片的清洗和蚀刻,提高电池片的光电转换效率,降低生产成本,推动太阳能光伏产业的可持续发展。

江化微在生产方面具有显著的混配工艺优势。通过精密混配技术,能够将纯化后的各种化学试剂按照特定的比例和工艺要求进行混合,从而实现产品的功能性需求。这种混配工艺并非简单的物理混合,而是需要精确控制各种试剂的比例、混合顺序、温度、压力等多个参数,以确保最终产品的质量稳定性和性能一致性。公司可以根据不同客户的特定工艺流程和工艺环节要求,定制化生产出符合其需求的湿电子化学品,满足了下游行业多样化和个性化的生产需求。在产能利用率方面,江阴基地表现出色,达到 93.16%,这得益于其成熟的生产运营管理体系和稳定的市场需求。江阴基地凭借多年的发展经验,在生产流程优化、设备维护管理、人员培训等方面积累了丰富的经验,能够高效地组织生产,确保设备的高负荷稳定运行,从而实现了较高的产能利用率。而镇江基地和四川基地的产能利用率分别为 20.79% 和约 30%。镇江基地正处于产能逐步爬升阶段,随着市场开拓与产品导入的不断推进,其产能利用率有望得到显著提升。目前,镇江基地一期项目中部分产品已投产,且 G5 等级的盐酸、氨水等产品正在稳步向高端半导体客户端导入,并已在华虹半导体、华力微等公司取得阶段性认证成果,G5 等级的硫酸也已在中国台湾高端半导体客户处通过阶段性认证,这些积极的进展为镇江基地产能利用率的提升奠定了坚实基础。四川基地产能利用率相对较低主要是由于其市场定位侧重于平板市场,而平板类市场在 2023 年处于低潮期。不过,随着平板市场的逐渐复苏以及公司市场拓展策略的有效实施,预计四川基地的产能利用率也将逐步提高。从产销率来看,公司产品整体呈现出良好的销售态势,能够较好地满足市场需求。在市场区域分布上,公司主营业务主要集中在华东地区,这与华东地区发达的电子产业集群密切相关。华东地区汇聚了众多的半导体、平板显示、光伏太阳能等电子企业,形成了完整的产业链上下游配套体系,为江化微提供了丰富的客户资源和便捷的市场渠道。公司在华东地区能够充分利用地域优势,快速响应客户需求,降低运输成本和时间成本,从而提高市场竞争力。同时,公司也在积极拓展其他地区的市场,包括华南、华北、东北、华中、西南等地,并且随着销售规模的扩大,市场区域逐渐稳定,客户群体不断扩大。在客户构成方面,江化微拥有众多知名企业客户。在平板显示领域,与京东方、中电彩虹、深天马等行业领先企业建立了长期稳定的合作关系;在半导体及 LED 领域,中芯国际、士兰微电子、华润微电子、长电科技等知名企业均是其重要客户;在新能源(太阳能光伏及锂电)领域,华晟集团、捷泰集团等企业也与江化微保持着紧密的合作。这些客户在各自领域具有强大的市场影响力和技术引领作用,与他们的合作不仅体现了江化微产品的高质量和可靠性,也为公司进一步拓展市场份额、提升品牌知名度提供了有力支持。

格林达在光刻胶配套试剂领域表现卓越,其核心产品 TMAH 显影液达到了 SEMI G5 等级,这一等级是目前国际 SEMI 标准化组织针对 IC 制造中不同线宽对湿电子化学品标准等级要求的最高等级,对应集成电路线宽小于 0.09μm 的超大规模集成电路制造,能够满足 90 纳米以上半导体制程需求。该显影液在纯度、金属离子含量等关键指标上具有显著优势,纯度高且金属离子含量低,清洗后基本不留金属痕迹,显影效果极佳,从而取代了 KOH 成为当前主流应用且性能最优的显影液。在蚀刻液方面,公司的产品能够精准地对不同材料进行蚀刻,如含氟类缓冲氧化蚀刻液(BOE 蚀刻液)可在室温下有效蚀刻硅二氧化物(SiO2)而不影响硅本身,且通过精确控制 HF 和 NH4F 的配比,满足了半导体和面板制造中多样化的蚀刻需求。公司还生产稀释液、清洗液等多种产品,这些产品在电子产品制造工艺中相互配合,为显影、蚀刻、清洗等关键工序提供了全面且优质的解决方案。

在市场竞争力方面,格林达在显示面板领域占据着举足轻重的地位,拥有超过 40% 的高市场占有率。公司的盈利能力在行业内尤为突出,尽管总营收相对部分同行企业并非最高,如 2023 年总营收为 6.95 亿元,低于江化微的 10.30 亿元和晶瑞电材的 12.99 亿元,但净利润表现卓越,从 2019 年到 2023 年,净利润从 1.03 亿元增长至 1.75 亿元,2024 年一季度净利润达 3409 万元,同比增长 22%,营业净利润多年保持在接近 20% 的水平,2023 年更是突破 25%,远超江化微等同行企业,甚至一度超越半导体行业知名企业北方华创。在客户资源上,格林达与众多国内外知名企业建立了长期稳定的合作关系,其客户涵盖京东方集团、韩国 LG 集团、华星光电、天马微电子等。依托强大的技术研发实力和优质的产品质量,格林达不仅实现了在显示面板领域 TMAH 显影液的国产替代,还将产品大量出口至韩国、日本及中国台湾等地区,外销占比超过 20%,在国际市场上展现出强劲的竞争力,充分彰显了公司在光刻胶配套试剂领域的强大实力和广阔的市场前景。

安集科技专注于关键半导体材料的研发与产业化,其产品主要涵盖化学机械抛光液、功能性湿电子化学品和电镀液及添加剂系列产品。化学机械抛光液是其核心产品之一,根据抛光对象的不同,可细分为多个系列。铜及铜阻挡层系列抛光液在先进制程的逻辑芯片和存储芯片制造中发挥着关键作用,能够精准地对铜及铜阻挡层进行抛光,确保芯片内部电路的良好连接与信号传输。钨抛光液则大量应用于存储制造工艺,在逻辑芯片中也有部分工艺涉及,对于存储芯片的性能提升和存储容量增加有着重要意义。硅粗抛光液主要应用于硅晶片的初步加工过程,为后续的精细加工奠定基础。钴抛光液是新一代制程中的全新抛光应用,适用于 10nm 及以下的技术节点,满足了先进制程对高精度抛光的严苛要求。氧化物抛光液可有效去除金属元件的表面氧化物,保证芯片制造过程中的材料纯净度与稳定性。这些不同类型的化学机械抛光液相互配合,能够满足从 130nm 到 10 - 7nm 不同技术节点的集成电路制造需求,在国内 8 英寸和 12 英寸主流晶圆生产线中得到了广泛应用。

功能性湿电子化学品方面,安集科技已成功涵盖刻蚀后清洗液等多种产品系列。刻蚀后清洗液在芯片制造过程中不可或缺,能够在刻蚀工序完成后,精准且彻底地清除晶圆表面残留的刻蚀剂、反应物等杂质,确保晶圆表面的洁净度与平整度,为后续的工艺步骤提供良好的基础,有效避免杂质对芯片性能产生不良影响。在先进封装领域,公司的产品同样有着重要应用,如电镀液及添加剂系列产品,包括铜、镍、镍铁、锡银等电镀液及添加剂,可应用于凸点、重布线层(RDL)等技术环节,为芯片的封装提供了可靠的材料保障,有助于提升芯片的封装质量与性能,增强芯片在实际应用中的稳定性与可靠性。

安集科技在半导体材料领域取得了众多令人瞩目的技术突破,对我国半导体行业的发展产生了深远影响。在 CMP 抛光液方面,公司成功打破了国外厂商对集成电路领域化学机械抛光液的长期垄断局面,实现了进口替代的重大突破,使我国在该关键领域拥有了自主供应能力。其铜及铜阻挡层抛光液产品在先进制程上持续放量,多款产品在多个新客户端脱颖而出,成为首选供应商并实现量产销售,有力地推动了我国芯片制造企业在先进制程领域的发展。同时,使用国产研磨颗粒的铜及铜阻挡层抛光液也已实现量产销售,进一步提升了我国半导体材料的自主可控水平。公司的钨抛光液在存储芯片和逻辑芯片领域的应用范围和市场份额持续稳健上升,多款钨抛光液在先进制程中通过验证并实现量产,为我国存储芯片和逻辑芯片产业的发展提供了强有力的支持。在功能性湿电子化学品领域,安集科技致力于攻克领先技术节点难关,不断拓展产品线布局。其刻蚀后清洗液等产品在先进制程的研发及产业化方面进展顺利,持续上量,为芯片制造过程中的杂质清除提供了高效、可靠的解决方案,有效提升了芯片的良率与性能。公司在抛光后清洗液方面也取得了显著进展,先进制程碱性抛光后清洗液快速上量,进一步完善了芯片制造的清洗工艺体系。

安集科技的这些技术成果对我国半导体材料行业具有极为重要的意义。它不仅填补了我国在高端半导体材料领域的多项空白,减少了我国对国外进口产品的依赖,还提升了我国半导体产业在全球的竞争力。公司作为国内半导体材料领域的领军企业之一,通过持续的技术创新与产品研发,为我国半导体产业的自主可控发展提供了重要的技术支撑与产品保障,引领着我国半导体材料行业不断向高端化、国产化方向迈进,在我国半导体产业发展的征程中扮演着极为关键的角色。

在产品种类方面,飞凯材料和晶瑞电材的产品较为丰富多样。飞凯材料涵盖了电子化学材料、紫外固化材料等多个领域,在光刻胶领域更是拥有从面板光刻胶到半导体光刻胶的多种产品类型,以及先进封装材料等;晶瑞电材则包括高纯化学品、光刻胶及配套材料、锂电池材料等系列产品,高纯化学品中的双氧水、氨水和硫酸等均达到国际最高等级 G5,光刻胶类型也较为全面。江化微主要专注于湿电子化学品中的超净高纯试剂和光刻胶配套试剂;格林达主要产品为光刻胶配套试剂中的 TMAH 显影液等,产品相对专注于光刻胶配套领域的核心产品;安集科技则专注于关键半导体材料,如化学机械抛光液、功能性湿电子化学品和电镀液及添加剂系列产品,在抛光液领域有细分多种类型以满足不同工艺需求。

从技术水平来看,格林达的 TMAH 显影液达到 SEMI G5 等级,在纯度、金属离子含量等关键指标上具有显著优势,处于行业领先地位,能够满足 90 纳米以上半导体制程需求;晶瑞电材在光刻胶技术上取得突破,KrF 光刻胶已完成中试,分辨率达到先进水平,且积极布局 ArF 光刻胶研发,同时其高纯试剂的生产技术也达到国际先进水平,部分产品达到 G5 等级;飞凯材料在光刻胶领域也有一定成果,开发出适用于 8 吋 / 12 吋晶圆制造的 Iline 光刻胶,并在先进封装材料领域有多项填补国内空白的产品,如 ULA 锡合金微球等;江化微在混配工艺上具有优势,能够定制化生产满足不同客户需求的湿电子化学品;安集科技在 CMP 抛光液方面打破国外垄断,实现进口替代,其铜及铜阻挡层抛光液等多款产品在先进制程上持续放量,技术实力不容小觑。

在应用领域侧重上,飞凯材料的产品在半导体、平板显示、涂料、印刷等多个领域均有广泛应用;晶瑞电材的高纯化学品主要应用于半导体芯片制造,光刻胶及配套材料用于半导体光刻工艺,锂电池材料则应用于新能源汽车行业;江化微的产品主要应用于平板显示、半导体、光伏太阳能等领域;格林达的产品主要应用于显示面板领域,且在该领域占据较高市场份额,同时也在积极切入半导体产业链;安集科技的产品主要应用于集成电路制造的各个工艺环节以及先进封装领域,与半导体制造紧密相关。

飞凯材料的优势在于多领域布局,产品应用广泛,能够分散风险并实现协同发展,在先进封装材料领域的技术突破为其在半导体后端工艺中奠定了坚实地位;晶瑞电材的优势在于半导体与新能源材料并重,能够受益于两个高速发展的行业,其在光刻胶和高纯试剂技术上的进步使其在半导体材料领域具有较强竞争力;江化微作为湿电子化学品龙头企业,在混配工艺和客户资源方面具有优势,能够根据客户需求定制产品,与众多知名企业建立了长期稳定的合作关系;格林达在光刻胶配套试剂领域专注且专业,TMAH 显影液的高品质使其在显示面板领域占据主导地位,并逐步向半导体领域拓展;安集科技在关键半导体材料的研发上具有深厚底蕴,CMP 抛光液等产品的技术突破对我国半导体产业的自主可控发展起到了关键推动作用。然而,飞凯材料可能面临多领域管理和资源分配的挑战;晶瑞电材在不同业务板块的竞争压力较大,需要持续投入研发以保持技术领先;江化微在产能利用率提升和市场区域拓展方面需要进一步努力;格林达虽然在显示面板领域优势明显,但在半导体领域的市场份额有待进一步扩大;安集科技则需要不断应对半导体技术快速发展带来的技术迭代压力,持续研发新产品以满足先进制程的需求。

从营收方面来看,晶瑞电材在 2023 年的营收相对较高,为 12.99 亿元,显示出其在产品销售规模上的优势,这可能得益于其丰富的产品体系在多个市场的广泛应用;飞凯材料 2023 年营收也较为可观,其多领域业务布局有助于稳定收入来源;江化微营收为 10.30 亿元,在湿电子化学品市场有一定的份额基础;格林达的营收相对较低,为 6.95 亿元,主要受其产品专注于光刻胶配套试剂领域的限制;安集科技作为专注于关键半导体材料的企业,营收规模相对较小,但在其细分领域具有较高的技术壁垒和市场地位。

在净利润方面,格林达表现突出,2019 - 2023 年净利润持续增长,2023 年净利润为 1.75 亿元,营业净利润多年保持在较高水平,2023 年更是突破 25%,这得益于其产品的高附加值和在显示面板领域的市场优势,通过与众多知名企业的合作,实现了较好的盈利;飞凯材料和晶瑞电材的净利润也有一定规模,分别通过各自在电子化学材料和半导体与新能源材料领域的发展获得相应利润;江化微的营业净利率相对较低,在 10% 不到的水平,虽然营收规模尚可,但在成本控制或产品附加值方面有待提升。

在市场份额方面,格林达在显示面板领域的光刻胶配套试剂市场占有率超过 40%,具有很强的市场竞争力;江化微在湿电子化学品领域与众多知名企业合作,在平板显示、半导体等领域拥有一定的市场份额;飞凯材料凭借其多领域产品布局在不同市场都有一定的份额占比;晶瑞电材在半导体材料和锂电池材料相关市场也在逐步扩大其市场份额;安集科技在化学机械抛光液等关键半导体材料领域在国内 8 英寸和 12 英寸主流晶圆生产线中得到广泛应用,占据一定的市场地位。

从行业趋势来看,半导体产业正处于快速发展与变革时期。随着全球半导体产业向亚洲地区转移,中国作为全球最大的半导体消费市场之一,本土半导体产业迎来了巨大的发展机遇。在国产替代的浪潮下,这五家企业作为国内半导体工艺化学品领域的优秀代表,有望受益于政策支持和市场需求增长。半导体制造技术不断向先进制程发展,对工艺化学品的纯度、性能等要求也越来越高。飞凯材料、晶瑞电材、格林达和安集科技在光刻胶、抛光液等关键产品上的技术研发和突破,将有助于满足先进制程的需求,进一步扩大市场份额。江化微在湿电子化学品的混配工艺优势也能使其更好地适应不同客户在先进制程中的个性化需求。随着新能源汽车、5G 通信、人工智能等新兴产业的快速发展,对半导体芯片的需求持续增长,这将为晶瑞电材的锂电池材料业务和半导体材料业务带来双重机遇,也将促进其他企业在相关半导体工艺化学品领域的市场拓展。

然而,行业竞争也日益激烈。国际半导体工艺化学品巨头在技术和市场份额上仍占据优势地位,国内企业需要不断加大研发投入,提升技术水平,提高产品质量和稳定性,以应对国际竞争压力。半导体产业周期波动对企业的营收和利润也会产生影响。在产业下行周期,企业可能面临订单减少、价格压力等问题,需要通过优化成本结构、拓展多元化市场等方式来应对风险。

来源:兰板套利

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