摘要：因此光刻胶的重要性和稀缺性都不逊于战略物资，也是目前国际上争夺战最为激烈的关键材料之一。

光刻胶被戏称为“半导体产业的血液”，没有光刻胶，就无法制造芯片。

因此光刻胶的重要性和稀缺性都不逊于战略物资，也是目前国际上争夺战最为激烈的关键材料之一。

2020年，我国半导体行业对光刻胶的市场需求高达70亿美元，但我国自产却不到5%。

这就意味着被别人卡脖子了!

而如今，我国半导体领域的最大竞争对手——日本，已经悄然间倾斜重力，开始往国内半导体市场的供给中注入垄断物资。

一旦日本选择断供我国进口光刻胶，那么我国半导体产业将遇到怎样的困境?

日本在半导体材料领域内，有着不可替代的地位，其垄断程度甚至在全球板块内占据了90%的市场份额，其中主要以东芝、佳能以及尼康这三家企业为主。

这些企业坚持以技术积累和市场布局双管齐下，不断巩固自身地位，并不时向其他国家开动“嘴炮”，以维护自身利益，阻止其他国家的追赶步伐。

甚至在全球化浪潮如此汹涌的情况下，日本仍然对其他国家的市场采取封闭态度，拒绝合作，从中可见其霸权思想。

但中国半导体行业并没有因为日本的光刻胶“卡脖子”就停止发展，仍然加速着中国半导体行业总产值破2万亿美元的进程，试图抵制日本的“卡脖子行为”。

然而如果日本突然傲慢地把供货大门关上，那么将对我国半导体行业造成怎样的影响呢?

日本的光刻胶在生产过程中需要进行3道严格的筛选，其中包括合成树脂、溶剂和光敏剂。

而其中光敏剂又分为两类:分别是宽谱吸收和窄谱吸收。

这两类光敏剂在生产工艺上有着显著差异。

因此根据其所处的制程节点不同，可以将光刻胶分为四类:

1. 第一类: 400nm到500nm

2. 第二类: 248nm

3. 第三类: 193nm

4. 第四类: 13.5nm

而我国目前所能研发并生产出的最先进的光刻胶，是眼前这个阶段248nm的水平。

但这还距离全球最先进芯片技术有着巨大的差距，无法与其匹敌，如果日本完全断供，那么将直接造成我国各大厂商在生产芯片时遇到难题，芯片无法量产。

最终将导致我国一系列前端技术将无法突破，国内产业链失去竞争力，科技迅速萎缩甚至崩塌，国家将承受巨大的经济损失。

日本之所以能在全球市场上占据极大优势，这主要归功于其先进的生产技术，而这种先进技术是世界各国所无法比拟的。

我们可以通过实例来看清楚:首先，日韩两国之间曾经有一个竞争关系，但由于日本在光刻技术方面处于领先地位，所以14nm以下工艺全都由日本进行生产。

而且无论是DRAM方面还是NAND Flash方面，他们在工艺问题上都选择了使用日本公司的生产设备和材料。

即使是中国投资非常高，计划要在半导体行业魅力八年之内生产出10万个晶圆厂，并且致力于发展本土半导体行业，但这个计划也没能使中国半导体行业独立于日本。

众所周知，日本企业非常注重知识产权，他们认为先进技术是一种非常重要也非常昂贵的资产。

因此，在中国进入日本市场时，日本提出了一个条件，那就是必须从中国手中获得一定比例的专利使用权。

这一条件看似公平，但实际上却极大地限制了中国半导体行业的发展。

中国公司需要花费大量的资金来购买这些专利使用权，而这笔资金也正是中国本土半导体行业急需的投资。

同时，日本企业严格限制中国公司对他们这些专利技术的使用范围，使得中国公司无法进行大规模开发利用，只能将这些专利保留在生产环节，增加成本，却没有收入。

如果日本这些材料不再供给中国的话，那么中国将如何应对呢?

面对日本的所谓“人心叵测”，我国应该采取以下措施:

首先，我们应该倒逼国产化。

尽管我们现在只是追赶者，但我们仍然要保持主动权和紧迫感，以实现弯道超车。

其次，以后每年都要大力伙食光刻精益制造领域进行多方面投资，以应对不平等条约。

第三，我们要加大对光刻胶产业政策扶持力度，以推动国产化进程，加快发展。

第四，虽然我国当前正处于国内半导体行业激励时期，但我们仍应该合理把握形势，以规避潜在风险。

最后，我们要联合各类科研院所，加强科研攻关，提高自主创新能力，培养优秀人才，促进学术交流合作。

此外，在我国需求不断增加、潜力巨大的情况下，我国无需过多顾虑其它国家对我国半导体技术限制或封锁。

一些已经放弃或即将放弃相关研究技术的国家，在面对需求旺盛、需求巨大的中国市场时，也不必担心我们会对他国进行相关技术转移。

因此，中国可以在保持自身稳定发展的情况下，占领更大的市场份额，甚至引领更多国家共同发展。

来源：小胖仔说家居