摘要：国家知识产权局信息显示，深圳市联恒星科技有限公司申请一项名为“一种电阻层析成像传感器现场标定方法及系统”的专利，公开号 CN 119290975 A，申请日期为2024年10月。

金融界2025年1月15日消息，国家知识产权局信息显示，深圳市联恒星科技有限公司申请一项名为“一种电阻层析成像传感器现场标定方法及系统”的专利，公开号 CN 119290975 A，申请日期为2024年10月。

专利摘要显示，本申请公开一种电阻层析成像传感器现场标定方法及系统。所述方法分为三大步骤：在实验室条件下，通过控制流体温度并同步测量其电导率及ERT传感器的电压响应，建立电压测量值与电导率之间的映射函数模型；利用现场待测流体的一个标定电压及其电导率作为基准，对实验室建立的映射函数模型进行迁移，以适应现场实际条件；利用迁移后的模型进行电导率的实时测量和标定电压的计算。通过实验室条件下的详细标定和现场标定点的引入，该方法能够有效减少现场环境对ERT传感器测量准确性的影响，确保测量结果的准确性。该方法能够灵活应对不同现场环境的变化，无需频繁重新标定，降低了维护成本和操作复杂度。

天眼查资料显示，深圳市联恒星科技有限公司，成立于2014年，位于深圳市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本1301.8844万人民币，实缴资本1152.6758万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市联恒星科技有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目5次，知识产权方面有商标信息9条，专利信息56条，此外企业还拥有行政许可9个。

来源：金融界