摘要：这几天美国政府准备召开对中国成熟芯片产业的听证会,不出意外,美国政府又要进一步打压中国的成熟芯片产业了。对于中国芯片产业目前技术水平进展到什么程度,外媒也是众说纷纭,昨天一家外媒爆料称, 中国自己开发的最先进EUV光刻机很快要出来了,为了一探究竟,一名台湾网红
这几天美国政府准备召开对中国成熟芯片产业的听证会,不出意外,美国政府又要进一步打压中国的成熟芯片产业了。对于中国芯片产业目前技术水平进展到什么程度,外媒也是众说纷纭,昨天一家外媒爆料称, 中国自己开发的最先进EUV光刻机很快要出来了,为了一探究竟,一名台湾网红竟然只身跑到深圳,偷偷探查华为芯片厂建设的情况。
先聊这家外媒的看法,大家也知道,中国的芯片制造业,目前被外国卡脖子的主要设备就是光刻机,具体就是最先进的极紫外线光刻机EUV,这种产品有钱也买不到, 中芯国际等国内制造企业目前仍继续依赖较旧的 DUV 机器。遗憾的是，由于美国贸易制裁禁止 ASML 向任何中国实体提供“最先进的” EUV 机器，中国企业无法生产最先进的3纳米芯片。
外媒的报道
这家外媒表示虽然中国企业近两年也向荷兰企业阿斯麦公司购买了用于成熟制程芯片的光刻机DUV 设备,但外国专家仍指出, DUV 设备的使用极大地影响了中国最大的半导体公司中芯国际的进展。尽管后者此前曾声称已成功生产出 5nm 晶圆，但量产仍因成本过高和良率低而受阻。这些挫折也对一直无法跨越 7nm 门槛的华为产生了负面影响。
荷兰阿斯麦公司
虽然中国企业目前获得荷兰光刻机有困难,但这家外媒指出,根据他们看到的最新报告，他们判断这些雄心勃勃的目标已经白纸黑字写明，并且他们大胆预测,预计中国企业将于 2025 年第三季度开始试生产先进芯片。
大家都知道,目前光刻机基本都是荷兰企业和日本能生产,最先进的EUV全世界只有荷兰阿斯麦制造,那么中国企业怎么造出来的?
外媒分析称,关键是中国企业采用了不同的技术路径,据称，中国定制的 EUV 光刻机采用的是激光诱导放电等离子体 (LDP)，与 荷兰ASML 的激光产生等离子体 (LPP) 略有不同。
中国自主研发的 EUV 设备的实际量产可能在 2026 年开始，新方法将引入更简单的设计，同时也更节能。
这些EUV机器的全面生产正是中国所需要的武器，不仅可以获得受美国制裁影响的公司的依赖，还可以获得竞争优势。华为东莞工厂正在测试一种新系统。此前有报道称，哈尔滨省创新的一个研究团队开发了一种放电等离子体极紫外光刻光源。
外媒的报道
按照一位外国专家的分析,他指出中国光刻机的光源可以产生波长为 13.5nm 的 EUV 光，满足光刻市场的需求。在华为一家工厂目前正在试用的新系统下，LDP 用于产生 13.5nm EUV 辐射。该过程涉及蒸发电极之间的锡并通过高压放电将其转化为等离子体，电子离子碰撞产生所需波长。
这种方法与荷兰 ASML 的 LPP方法有何不同？
这家总部位于荷兰的光刻机巨头依靠高能激光器和复杂的现场可编程门阵列控制。根据试制报告，华为工厂正在测试的利用激光诱导放电等离子体的原型光刻机据称具有更简单、更小的设计，同时功耗更低、制造成本更低。
上一代光刻系统采用 248nm 和 193nm 波长，与 荷兰的EUV 的 13.5nm 辐射相比，其性能要差很多。中芯国际必须依靠多次图案化步骤才能获得先进节点，这不仅增加了晶圆生产成本，而且耗时长，导致成本高昂。据估计，如果使用相同的光刻技术，中芯国际的 5nm 芯片将比台积电的芯片贵 50% ，这也解释了为什么该技术尚未在任何应用中首次亮相。
目前，华为仅限于在 7nm 工艺上开发其麒麟芯片组，这家前中国巨头只能进行细微调整，使其后续 SoC 的性能略优于其前代产品。外媒判断称如果中国新款光刻机制造出来，华为就可以大大缩小与高通和苹果等公司的差距。
让我判断,这家外媒笃定中国企业采取了不同于荷兰阿斯麦的技术方法,生产出新款光刻机了。
这家外媒的爆料也引发外国网民的热议,有外国网友说，中国将变得更强大！
还有人说，他们从 AMD 那里学到了营销技巧，FSR（4.0 之前）与 DLSS 一样好，但可以在任何地方使用，不需要特殊硬件，中国的人工智能Deepseek 也是如此。
外国网民热议中国光科技
当然也有人不高兴了，这位美国人就说，如果你相信中国正在成功开发 EUV 光刻机，那你对光刻机一无所知。
外国网友的评论
他们甚至无法制造自己的高端 DUV 机器，你们这些白X，他们目前正在尝试制造国产浸没式机器来制造 28nm，这将是令人印象深刻的。
一个网民评论说，这里的评论区充满了张口呼吸的白X，我很震惊他们没有被自己的舌头噎住——你们对这个行业一无所知。
有人反驳说,你肯定是个白X，居然认为中国无法制造 DUV。
美国国际开发署已经关闭。您可能不再指望薪水了。是时候继续前进并寻找新工作了。
到底中国的EUV光刻机建造的怎么样了?
不仅很多外媒在关心这件事情,我注意到昨天台湾网红乌凌翔在他最新的节目直播中透露,2月底他在朋友帮忙下偷偷只身去深圳查看一家半导体公司,这家公司叫新凯来公司。
让我看,这位乌凌翔的举动就像一个间谍,他自述在朋友驾车帮助下,他偷偷趁着周日跑去郊外的新凯来公司厂区考察。他表示,这家公司的组成人员大部分来自华为,几乎可认为华为自建的芯片制造厂了。
这位乌凌翔也是半导体行业的业内人士,他看了工厂的设备,基本确认是采用EUV光刻机，其实他透露了厂房情况，宿舍，还有配套得气体设施。
法国设备
他指着工厂用上的法国一个公司的氦气储备罐，告诉观众,这大致可以猜测是给极紫外光光刻机使用的。
厂区
基于一些保密因素,他表示虽然不怀疑了，只是不好明说。不仅仅是他,2月底的时候，还有很多台湾芯片的人士都去看了深圳和东莞的建设，都确认中国EUV已经准备好了。
按照他的讲解,中国的EUV，有三个型号一起都通过验证了。三个不同路线。 LDP, DDP, LPP都有。最后，可能是LDP, LPP。
厂区环境
LDP是低功耗，低成本，但是不会特别高精尖，但是会解决7nm以下特别是5nm左右的芯片，类似中国的DeepSeek，虽然没有堆积最新的人工智能芯片,但凭借开发软件算法等,仍能和外国领先的技术保持一致,乌猜测这些光刻机主要在东莞使用，先保证国内市场有无问题。他推测中国自产 EUV 机器将于 2025 年第三季度进入试生产，采用更简单、更高效的设计方法, 到时候中芯国际和华为将受益匪浅。
LPP和ASML的EUV是同一个路线，可以做5nm以下的，就是中国的OpenAI, 主要在深圳，以后负责国外市场，会打造出中国自己的ASML,也就是生产最先进的光刻机。
工厂宿舍
有网民表示,现在这种情况下只能只做不说，这个很好确认,我朋友在广东做猎头，这段时间像疯了一样招人去新凯来公司，只要有技能工资都可以谈。招了好多做真空系统和精密机械的。
看了外媒的报道,如果中国的光刻机能在今年三季度试产，明年正式上市。我要恭喜伟大的中国科学家和工程师们，恭喜华为和所有相关的半导体开发公司和相关人员。恭喜ASML,以后不必在中国卖了。 如果中国自主研发的 EUV 设备可能于 2026 年开始量产，光刻机一出，赶上台积电只是时间问题，台湾那边还有什么筹码？
对于外媒猜测中国企业采用了不同技术方法制造光刻机,我觉得有可能成功,要知道,当美国的人工智能公司喊叫中国人没法获得最先进的英伟达芯片时,就永远不可能在性能上超越美国同行时,我都有些失望了,但没想到,过年后,中国的deepseek冒出来了,并且成功对抗美国的openai,如果中国半导体企业也采用一样的策略,绕个新途径,那完全可以对抗荷兰的光刻机生产商阿斯麦!
当然外媒和台湾网红也都表示,对于光刻机,中芯国际和华为现在真是打死也不说。
也有人对此抱持怀疑态度,他们的观点是,荷兰ASML当初从第一台实验室样机，到真正商业化量产，中间花了整整10年。中国第一台样机都还没出来呢，你和我说准备明年量产？硬件研发和软件研发有本质不同，哪怕3班倒，很多时间也节省不了的。
虽然大家认为中国早晚能搞出EUV光刻机，这没啥疑问，由于技术路径明确，各种论文也是公开的，外加中国制造业效率高，所以研发时间肯定会比荷兰ASML大幅缩短。但哪怕速度再快，也起码是5-10年之后的事情。
对于这种观点,我认为中国企业目前靠DUV+多重曝光，理论上是能达到5nm的，无非就是在这个精度的良率很难保证，成本太高。而不受美国政府制裁影响的厂商由于有EUV，他们有更精细的工具，自然就没必要拿个大锤子在那里死磕雕花。中国被封锁了，所以才会另辟蹊径。
有专家说过,光刻机这种东西不是科学,而是工程,所以不像可控核聚变那种,做不出来就是做不出来,光刻机只要上人力物力堆时间,是一定可以做出来的。
最近有媒体报道了另一件事,就是荷兰光刻机大厂ASM刚刚大力加码投资在中国的客服维修中心，他们表示一定要服务好中国这个最大的客户啊！难道说,他们也听到什么风声了吗?怎么过完年突然对中国企业和善了?
中国感觉要各个方面大爆发了。除了军事，科技，教育..., 连电影都出来个哪吒2！感觉这些只是开胃小菜，更惊喜的还在后面。
我认为中国几十年如一日的发力，政策不会变来变去。加上中国人民也聪明勤劳，全面碾压美国就是板上钉钉的事。本来除了过去两百年，中国一直都是世界上最强大的国家，但是人善被人欺，被西方蹂躏掠夺上百年家业几乎被抢光，好在底蕴和精气神还在。现在是回到原来的位置罢了。所以,最先进的光刻机在中国造出来,我一点不意外!
来源：长安谪仙
