摘要：在半导体行业的宏大版图中，新凯来宛如一颗迅猛升起的新星，自成立以来便以破竹之势闯入大众视野。这家于 2021 年 8 月成立，注册资本达 15 亿元，由深圳市深芯恒科技投资有限公司 100% 持股，背后实际由深圳市国资委全资控股的企业 ，致力于半导体装备及零部

新凯来：半导体行业的 “新王” 降临

在半导体行业的宏大版图中，新凯来宛如一颗迅猛升起的新星，自成立以来便以破竹之势闯入大众视野。这家于 2021 年 8 月成立，注册资本达 15 亿元，由深圳市深芯恒科技投资有限公司 100% 持股，背后实际由深圳市国资委全资控股的企业 ，致力于半导体装备及零部件、电子制造设备的研发、制造、销售与服务。其核心团队凭借着 20 年以上的电子设备技术开发经验，联合众多国内半导体制造设备和零部件合作伙伴，在半导体领域迅速扎根。

在 2025 年 3 月 26 - 28 日举办的 SEMICON China 2025 展会期间，深圳新凯来技术有限公司首次公开亮相，以 “芯世界，新选择，新凯来” 为宣传口号，一经亮相便在业界引发强烈震撼。新凯来在展会上展示了数十款自主研发的半导体设备，覆盖半导体制造全流程，包括刻蚀、扩散、薄膜等工艺装备，以及光学量检测设备、PX 量测和功率检测产品等量检测设备 ，并且这些设备都已量产，部分设备在关键性能上处于世界前沿水平。这一亮相，不仅彰显了新凯来在半导体设备研发制造上的实力，也引发了行业对其未来发展的无限遐想。而在新凯来的发展征程中，有 5 家公司与之紧密相连，它们或是供应商，或是合作伙伴，共同在半导体、光刻机等领域携手共进，接下来就让我们一同揭开这 5 家公司的神秘面纱 。

核心供应商：至纯科技，湿法工艺的 “隐形冠军”

在新凯来的供应商体系中，至纯科技（603690.SH）堪称关键一环 。至纯科技专注于高纯工艺系统及半导体湿法设备领域，是新凯来的核心供应商之一。其半导体清洗湿法工艺设备在行业内具备显著优势，能够精准满足新凯来下游晶圆厂的严苛需求，尤其是在先进制程领域，至纯科技已成功斩获部分工艺订单，彰显了其技术实力与产品可靠性。

半导体清洗是芯片制造过程中的关键环节，清洗步骤数量约占所有芯片制造工序步骤的 30% 以上。随着芯片制造工艺朝着精密化和复杂化方向发展，对清洗设备的要求也日益提升 。至纯科技敏锐捕捉到这一行业趋势，重点布局湿法设备，涵盖湿法槽式清洗设备及湿法单片式清洗设备，这些设备广泛应用于扩散、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜沉积等关键工序段前后。在技术路线上，至纯科技整体延续国际主流的 DNS 技术路径，目前已实现 28nm 节点的全覆盖，并在更先进的 14nm 及以下制程的湿法设备研发中取得率先突破 ，这一成果让其在竞争激烈的半导体清洗设备市场中崭露头角。

从市场表现来看，至纯科技的发展态势也十分强劲。2024 年上半年，公司半导体制程设备新签订单达 6.26 亿元，较去年同期实现大幅增长，公司预计全年新增订制程设备订单区间为 15 - 20 亿元 。其业务覆盖了中芯国际、华虹、长江存储等众多半导体行业头部企业，如今又与新凯来建立紧密合作，进一步巩固了其在半导体设备供应领域的地位。随着半导体行业的持续发展，以及新凯来业务的不断拓展，至纯科技有望凭借其技术优势和丰富的行业经验，在半导体湿法工艺领域持续深耕，收获更多订单与市场份额，成为推动行业发展的重要力量。

材料龙头：新莱应材，零部件供应的 “中流砥柱”

在高洁净应用材料领域，新莱应材（300260.SZ）可谓是熠熠生辉，作为新凯来的关键零部件供应商，其重要性不言而喻 。新莱应材一直专注于超高洁净应用材料的研究、制造与销售，在高洁净应用材料行业处于领先地位，是国内为数不多覆盖泛半导体、生物医药、食品安全三大领域的高洁净应用材料制造商 。

在半导体设备零部件供应方面，新莱应材的产品广泛应用于刻蚀、薄膜沉积、离子注入、光刻机等众多关键设备 。以刻蚀设备为例，其超高纯气体系统中的 6N 级不锈钢 / 合金管路，以及精密流体控制中的全系列超纯阀门，为刻蚀过程提供了纯净的气体传输和精准的流体控制，确保了刻蚀工艺的稳定性和精度。在薄膜沉积设备中，新莱应材的超高纯气体系统能提供高纯度的气体输送，满足薄膜沉积工艺对气体纯度的严格要求；其真空系统组件则满足了设备对真空度与稳定性的需求，有助于在晶圆表面沉积高质量的薄膜 。

新莱应材与新凯来的合作十分紧密。2024 年三季度，新凯来向新莱应材的订单金额达 8000 万元 ，其超高纯洁净管路系统已批量用于新凯来的刻蚀、薄膜沉积设备，满足 7nm/5nm 先进制程需求 。并且，新莱应材的产品不仅服务于新凯来，还覆盖了国际巨头应用材料（AMAT）、泛林半导体（LAM）等客户 ，这种广泛的客户覆盖，使其在半导体设备零部件市场中形成了 “国产替代 + 全球渗透” 的双轮驱动发展模式。随着国产半导体设备的不断放量，新莱应材与新凯来的合作规模有望进一步扩大，凭借其技术适配能力和产品质量，在半导体设备供应链中持续发挥重要作用，收获更多的订单与市场份额，助力半导体产业的国产化进程。

光电巨头：奥普光电，光刻配套的 “幕后英雄”

在半导体设备研发的前沿阵地，奥普光电（002338.SZ）凭借其独特的技术优势和深厚的科研背景，成为了不可忽视的力量 。奥普光电的实控人是中科院长春光机所，在 2024 年，长春光机所与新凯来合资成立了长光集智，将目光牢牢锁定在半导体设备研发领域，尤其是在光刻机配套技术及精密光学组件方面，展开了深入的探索与创新 。

奥普光电自身在光电测控仪器设备、新型医疗仪器、以及光学材料和光栅编码器等产品的研发、生产与销售领域成果斐然 。在光电测控仪器设备领域，其处于同行业领先地位，产品和技术在国防光电测控领域有着重要应用 。公司近年来承担了多项国家级及省级研发项目，在超大口径光学元件加工、绝对式光栅尺研制、精密光学器件在线检测等方面取得技术突破 。例如，奥普光电研制的非球面超精密铣磨设备和自由度快速研抛设备，可解决光刻机物镜镜片抛磨难点 ；控股公司禹衡光学生产的高精度绝对式光栅尺和编码器，更是保证光刻机工作台定位精度的先决条件，工件台系统作为光刻机的核心分系统，直接影响光刻机三大性能中的产率和套刻精度 。

从股权关系和业务合作上看，奥普光电与长春光机所的紧密联系为其在半导体设备研发领域提供了强大的技术支撑 。长春光机所作为国内顶尖的光学研究机构，拥有丰富的科研资源和深厚的技术积累，奥普光电作为其控股企业，能够充分利用这些资源，在半导体设备研发中发挥自身优势 。此次与新凯来合资成立长光集智，更是整合了各方优势，有望在光刻机配套技术等关键领域取得突破，为国产光刻机的发展贡献重要力量，在未来的半导体设备市场中占据重要的一席之地 。

靶材王者：江丰电子，PVD 设备靶材的 “领航者”

在半导体材料的关键领域，江丰电子（300666.SZ）以其卓越的技术实力和领先的市场地位，成为了行业内的璀璨明星 ，更是新凯来在 PVD 设备靶材供应上的关键合作伙伴 。

江丰电子作为超高纯金属靶材的全球龙头之一，在晶圆制造溅射靶材市场占有率位居全球前二 。其主要产品涵盖了铝靶、钛靶、钽靶、铜靶等各种高纯溅射靶材 ，这些靶材在半导体芯片制造、平板显示器制造等高科技领域发挥着不可或缺的作用 。在半导体芯片制造过程中，超高纯金属溅射靶材就像是固体 “油墨”，当制作芯片时，氩离子轰击靶材，使金属原子溅射并附着在晶圆上，形成纳米级的金属薄膜，随后光刻机对这些金属薄膜进行雕刻，最终形成晶圆上的超精细 “电缆线” 。而江丰电子生产的靶材，凭借其高纯度、高精度和高性能的特点，为芯片制造提供了关键的材料支撑 。

在技术层面，江丰电子拥有一系列先进技术，为其产品的高品质提供了坚实保障 。在材料研发上，公司投入大量资源，具备自主研发高性能溅射靶材的能力，通过优化材料成分和结构，提高了靶材的纯度、密度和均匀性，满足高端芯片制造对材料性能的严苛要求 。在生产工艺上，江丰电子掌握了精密加工、表面处理和质量控制等先进环节，生产过程严格遵循国际标准和行业规范，确保了产品的稳定性和可靠性 。公司还注重技术创新和知识产权保护，拥有多项核心专利技术 。例如，在晶粒晶向控制技术方面，江丰电子通过科学工艺安排，精确控制晶粒晶向，确保溅射成膜的均匀性和溅射速度，从而提升下游产品的品质和性能 ；在异种金属大面积焊接技术上，公司掌握了多种焊接技术，产品平均焊接结合率达 99% 以上，为溅射靶材产品提供了可靠的结构保障 。

江丰电子与新凯来的合作紧密且深入 。作为新凯来 “普陀山系列” PVD 设备的主靶材供应商，江丰电子为其提供的靶材覆盖铝、钛、钽靶材等，适配 14nm 及以上逻辑芯片和 128 层以上 3D NAND 工艺 。2023 年，江丰电子向新凯来供货金额约 1.2 亿元 ，随着 2024 年新凯来设备的放量，预计供货规模将翻倍至 2.5 - 3 亿元 。这种紧密的合作关系，不仅基于江丰电子的技术实力和产品质量，还源于双方对半导体行业发展趋势的共同认知和追求 。随着半导体行业对先进制程工艺需求的不断增长，对靶材的性能和质量要求也日益提高 ，江丰电子凭借其持续的技术创新和大规模生产能力，能够为新凯来提供稳定、高质量的靶材供应，助力新凯来在半导体设备领域不断突破，共同推动半导体产业的发展 。

偏光片先锋：冠石科技，光刻工艺的 “潜力之星”

在半导体显示与光刻工艺的交织领域，冠石科技（605588.SH）以其独特的业务布局和技术探索，展现出别样的发展潜力，与新凯来在技术创新的道路上也存在着潜在的协同空间 。

冠石科技的主营业务围绕半导体显示器件及特种胶粘材料展开 。在半导体显示器件方面，产品涵盖偏光片、功能性器件、信号连接器等，其中偏光片作为显示面板上游的关键材料之一，冠石科技能够精准控制产品的各项指标 。例如，在裁剪精度、直角度、吸收轴角度和翘曲度误差等方面，冠石科技有着出色的表现，直角度误差控制在 0.05 度以内，吸收轴角度误差控制在 0.3 度以内，翘曲度误差控制在 - 8 到 20 毫米之间 ，加工能力覆盖 11 英寸至 100 英寸各类大小规格型号，产品广泛应用于电视、显示器等终端 。2024 年上半年，公司半导体显示器件收入达到 6.08 亿元，占营业收入的 92.64% ，彰显了其在该领域的市场地位 。

而在光刻工艺相关的关键材料 —— 掩膜版领域，冠石科技同样迈出了坚实的步伐 。公司积极布局半导体光掩膜版制造项目，子公司宁波冠石半导体与宁波前湾新区签署投资协议书，计划投资 16.10 亿元用于建设该项目 。截至 2024 年 8 月 29 日，项目厂房建设已基本完成，首台电子束掩膜版光刻机顺利交付，这台设备是光掩膜版 40 纳米技术节点量产及 28 纳米技术节点研发的重点设备 。该项目预计在 2025 年实现 45 纳米光掩膜版的量产，2028 年实现 28 纳米光掩膜版的量产，全部达产后可实现年产半导体光掩膜版逾 1.25 万片，预计年营业收入将达 8.5 亿元 。这一项目的推进，将使冠石科技填补国内先进制程光罩空白，打破国外高端光掩膜版的垄断局面 。

从与新凯来的关联角度来看，冠石科技的掩膜版产品用于自对准四重图形 (SAOP) 曝光工艺，与新凯来和华为联合研发的 SAOP 技术存在潜在协同 。虽然这种关联并非直接的供应或股权合作，但在半导体技术不断发展，尤其是在先进制程工艺中，多重曝光技术对掩膜版的精度和质量要求极高，冠石科技在掩膜版领域的技术积累和未来产能释放，使其有可能在未来与新凯来在先进制程光刻技术的研发与应用中展开合作 。随着半导体行业对先进制程工艺的持续追求，以及新凯来在半导体设备领域的不断拓展，冠石科技有望凭借其在掩膜版和半导体显示器件领域的技术优势，在半导体产业链中找到与新凯来合作的契合点，共同推动半导体技术的发展，在国产半导体产业的崛起中发挥重要作用 。

未来展望：携手共进，开拓半导体新征程

新凯来与至纯科技、新莱应材、奥普光电、江丰电子、冠石科技这 5 家公司的紧密合作，犹如一场强大的产业共振，在半导体行业中激起层层波澜 。这种合作模式，不仅是企业间资源与技术的优化配置，更是国产半导体产业在全球竞争格局中谋求突破与发展的关键路径 。

从产业层面来看，这 5 家公司与新凯来的合作，涵盖了半导体设备制造从零部件供应、材料支持到技术研发、工艺配套等多个关键环节，形成了一条完整且高效的产业链条 。这种产业链的协同发展，有助于提升国产半导体设备的整体性能和竞争力，加速国产替代进程 。例如，至纯科技的湿法工艺设备与新莱应材的高洁净零部件，为新凯来的半导体设备提供了关键的工艺保障和品质支撑；奥普光电的光刻配套技术与江丰电子的靶材供应，在光刻机及 PVD 设备的核心技术和材料应用上，助力新凯来实现技术突破与创新 ；冠石科技在掩膜版领域的布局，虽与新凯来的合作尚待进一步深化，但已展现出在先进光刻工艺中协同发展的潜力 。

展望未来，随着半导体行业技术的快速迭代和市场需求的持续增长，尤其是在人工智能、物联网、5G 通信等新兴领域对半导体芯片性能和产能提出更高要求的背景下 ，新凯来与这 5 家公司的合作有望迎来更广阔的发展空间 。在技术创新方面，各方将加大研发投入，共同攻克半导体设备制造中的 “卡脖子” 技术难题，如更高精度的光刻技术、更先进的刻蚀工艺、以及更高效的量检测技术等，推动半导体设备向更高性能、更高精度、更低成本的方向发展 。在市场拓展方面，凭借合作所形成的技术优势和产品竞争力，新凯来及其合作伙伴将进一步扩大市场份额，不仅在国内市场满足本土半导体企业的设备需求，还将积极拓展国际市场，参与全球半导体产业的竞争与合作 。

半导体行业的发展前景光明但挑战依旧存在 。一方面，全球半导体产业竞争激烈，国际巨头在技术、市场和产业链整合方面占据优势，国产半导体企业需要不断提升自身实力，才能在国际市场中立足 。另一方面，半导体技术的研发需要大量的资金、人才和时间投入，技术更新换代迅速，企业面临着巨大的研发压力和市场风险 。然而，正是在这种挑战与机遇并存的环境下，新凯来与这 5 家公司的合作显得尤为重要 。它们以合作共赢为理念，整合资源，协同创新，为国产半导体产业的发展注入了强大动力 。相信在未来，随着各方合作的不断深入和拓展，它们将在半导体行业中书写更加辉煌的篇章，推动中国半导体产业迈向新的高度，在全球半导体产业格局中占据重要的一席之地 ，为我国的科技进步和经济发展做出更大的贡献 。

来源：兰板套利