英伟达黄仁勋：GAA 工艺或仅带来 20% 性能提升，架构与软件创新更为关键
英伟达（Nvidia）首席执行官黄仁勋（Jensen Huang）在近期 GTC 大会的一场问答环节中表示，依赖全环绕栅极（Gate-All-Around, GAA）晶体管的下一代制程技术可能会为公司处理器带来大约 20% 的性能提升。然而他同时强调，对于英伟
gaa工艺
英伟达黄仁勋：GAA工艺或仅带来20%性能提升
英伟达（Nvidia）首席执行官黄仁勋（Jensen Huang）在近期 GTC 大会的一场问答环节中表示，依赖全环绕栅极（Gate-All-Around, GAA）晶体管的下一代制程技术可能会为公司处理器带来大约 20% 的性能提升。然而他同时强调，对于英伟
曝三星第2代3nm GAA工艺良率改善，后续新机将搭载
出现这样情况有可能是由三星 3nm 良率低、产量不足导致的。而三星自研的 Exynos 芯片良率和性能问题，在过去几年中频繁出现相关的新闻报道和网络爆料。