预计2030年全球TMAH光刻胶显影液市场规模将达到2亿美元
TMAH（四甲基氢氧化铵，Tetramethylammonium Hydroxide）是一种常用于光刻工艺中的显影剂。光刻工艺是制造半导体器件和微电子器件过程中关键的一步，它涉及到使用光刻胶（photoresist）在晶圆（wafer）上创建图案。显影剂的作用
TMAH（四甲基氢氧化铵，Tetramethylammonium Hydroxide）是一种常用于光刻工艺中的显影剂。光刻工艺是制造半导体器件和微电子器件过程中关键的一步，它涉及到使用光刻胶（photoresist）在晶圆（wafer）上创建图案。显影剂的作用