晶圆翘曲对光刻工艺的影响及多维度控制策略
随着芯片制程不断缩小，光刻对晶圆平整度要求达到纳米级，而内部应力失衡或材料热膨胀系数失配引发的翘曲，会导致光刻对准失效、图形畸变等问题。今天我们将深入剖析晶圆翘曲在光刻工艺中的作用机制，系统阐述材料、工艺与检测等方面的控制策略，并结合实际案例，探索突破这一技术
光刻
研究机构TECHCET预测：2025年光刻材料收入将增长7%达50.6亿美元
研究机构TECHCET最新预测显示，受半导体市场复苏推动，2025年光刻材料收入预计增长7%，达到50.6亿美元。这一增长主要由先进光刻胶需求大幅增长驱动，特别是EUV光刻胶预计同比增长30%。
上科大 l 从3D纳米打印到原子制造
“ 纳米尺度3D打印技术采用“自下而上”的制造方法，通过精确操控材料的定向沉积，突破了传统工艺的局限，展现出广泛的应用潜力，尤其是在下一代微纳器件的原型设计和多功能结构构建中。”
2025年，光刻材料行业收入达50.6亿美元
据悉，这一增长主要由先进光刻胶需求大幅增长驱动，特别是EUV光刻胶预计同比增长30%。随着芯片产量增长，尤其是逻辑芯片和DRAM芯片领域先进节点器件产量提升，辅助材料和扩展材料也将呈现强劲增长态势。
英国部署全球第二台200kV电子束光刻设备，分辨率可达5nm以下
近日，英国南安普敦大学宣布，成功开设了日本以外首个分辨率达 5 纳米以下的尖端电子束光刻 (EBL) 中心，可以制造下一代半导体芯片。这也是全球第二个，欧洲首个此类电子束光刻中心。
1400台光刻机背后，ASML在怕什么？中国芯片绝地反击，谁输谁赢？
2025年5月7日晚上7点，我刚扒完最后一口外卖，手机突然被ASML的财报弹窗轰炸——「累计向中国交付超1400台光刻机」。嚯！这数字看得我筷子都掉了。要知道三年前老美刚逼着ASML签过「对华限售令」，现在他们却自曝家底，这操作比《甄嬛传》里的宫斗还刺激。
谁顶得住？无极芯片把光刻变白菜价，人民币结算捅穿美元老窝
（导语：家人们炸了吗？中国科技树又双叒点歪了！复旦魔改芯片直接把ASML逼到天台抽烟，深圳小厂用菜刀雕出瑞士表，这波操作比大妈广场舞攻占华尔街还刺激！）
全球半导体光刻掩模版及配套材料供应商整理（73家）
客观来说，单凭光刻掩模版几个字是无法讨论和判断技术难度的。掩模版并不仅仅是用在半导体领域，印刷电路版、显示面板、硬盘、乃至其它各种微图形加工的领域里，我们都有机会用到掩模版
东方晶源启动HPO2.0产品规划与研发
在半导体制造的早期阶段，芯片制造主要遵循从电路设计到生产制造的单向线性流程。各个关键步骤间的信息传递和交接方法相对简单直接。例如，物理设计、掩膜合成、掩膜板写入、光刻优化、工艺优化、检测与量测以及最终对封装芯片进行测试等各个环节相对独立，信息交流非常有限，数据
电子束光刻
电子束光刻作为下一代光刻技术的核心方向之一，其本质是利用电子波长短（
一种新型光刻技术，突破EUV极限
初创公司Lace Lithography AS（挪威卑尔根）正在开发一种光刻技术，该技术使用向表面发射的原子来定义特征，其分辨率超出了极紫外光刻技术的极限。
半导体晶圆光刻工艺中的问题有哪些？有哪些对策解决方法？
优化曝光与显影条件：通过实验校准最佳曝光剂量（如DUV/EUV光源调谐），并匹配显影液浓度和时间组合。
中国新型光刻设备，杀出一条血路，ASML原CEO的话被验证了
如今，这一预言得到了验证。最近，中国新锐企业携15款以中国山脉命名的光刻设备亮相上海半导体展会，涵盖第三代半导体、先进制程等领域，释放出国产设备技术突围的强烈信号。
《光刻之下》（一）
苏弥的防护服内衬已被冷汗浸透。她盯着电子显微镜的成像屏——那片本应完美如蜂巢的3nm芯片沟槽中，一道锯齿状暗纹正随电子束扫描微微颤动，像毒蛇吐信。“第七次重复实验，Z轴偏移量0.32埃。”量子探针的机械臂在真空腔体内无声移动，纳米级钨针尖刺入沟槽时激起一串数据
中美关税升级，“国产芯”突围窗口来了！五大方向重点梳理
4月11日，中国半导体行业协会发布重磅通知：集成电路“原产地”将以“晶圆流片地”为准，根据海关规则调整进口申报流程。此举迅速在产业界引发热议，被认为是中美半导体关税摩擦背景下的重要信号。
104%关税+37天倒计时，中国芯片如何破局？
2025年4月10日，中国海关总署官网悄然更新一则关税调整公告。这则看似普通的技术性通知，却在全球半导体产业引发剧烈震动——美国对华芯片产品的关税税率从75%骤增至104%。就在公告发布的同一时刻，深圳龙华区某晶圆厂的无尘车间内，工程师们正对首台全国产28nm
分子束全息光刻技术是啥？能用来干啥？
大家好！今天一起来了解分子束全息光刻技术（MBHL）技术。这项技术能在纳米尺度上玩出各种花样，制造出复杂的3D结构和超晶格，是不是超酷？快跟我一起去看看吧！
掩膜版行业深度研究报告
掩膜版（Photomask，又称光罩、光刻掩膜版等）是微电子制造中光刻工艺使用的核心图形母版，由透明基板上覆盖不透明遮光膜，通过光刻将电路设计图形转移到晶圆或基板上 (〖掩膜版〗行业市场规模：2024年全球掩膜版行业市场规模约530亿元 半导体市场应用占比超7
新凯来： “中国版阿斯麦”改写全球半导体制造格局
光刻机是制造芯片的核心设备，一台先进的EUV光刻机，价格抵得上一架波音737客机（1.2亿欧元）。2024年ASML的 High NA EUV光刻机售价直接翻到3.5亿欧元，相当于三架大型波音客机的价格，EUV光刻机重180吨，零件超过10万个，运一趟要装40
一张“透明塑料片”让科幻走进现实
在许多科幻大片中，帅气的主角们经常会在关键时刻，启动悬浮空气中的电子屏幕，手指在“屏幕”上滑动，总能找到化险为夷的方案。透明和显示，本是一对矛盾，但位于龙华区的光子晶体科技有限公司，却通过创新巧妙“化解矛盾”，令科幻大片中的情景走进现实。他们可以把任何一块透明