半导体湿法

半导体湿法和干法刻蚀

刻蚀是指通过物理或化学方法对材料进行选择性的去除,从而实现设计的结构图形的一种技术。蚀刻是半导体制造及微纳加工工艺中相当重要的步骤,自 1948 年发明晶体管到现在,在微电子学和半导体领域中,蚀刻技术的发展伴随着整个集成电路技术和化合物半导体技术的进步。在器件

半导体 湿法 半导体湿法 2024-12-20 15:57  3