山东大学开发出阈值电压为7.1V的高击穿电压的P-GaN HEMTs
山东大学报道了一种通过在栅极金属沉积之前将P-GaN的热氧化处理与原子层沉积(OTALD)相结合的增强型P-GaN/AlGaN/GaN金属-绝缘体-半导体高电子迁移率晶体管(MIS-HEMTs)。与传统器件相比,该器件的阈值电压从1.8V显著提高到7.1V,栅
山东大学报道了一种通过在栅极金属沉积之前将P-GaN的热氧化处理与原子层沉积(OTALD)相结合的增强型P-GaN/AlGaN/GaN金属-绝缘体-半导体高电子迁移率晶体管(MIS-HEMTs)。与传统器件相比,该器件的阈值电压从1.8V显著提高到7.1V,栅