重大突破,中国研制出全球首台DUV,这下ASML慌了?
2025 年 3 月,荷兰 ASML 总部的紧急会议记录显示,这家全球光刻机霸主正经历前所未有的焦虑。当中国科学院宣布研发出全球首台全固态深紫外 (DUV) 激光器时,ASML 首席技术官范登布林克在内部备忘录中写道:"中国正以令人窒息的速度重构光刻机产业逻辑
2025 年 3 月,荷兰 ASML 总部的紧急会议记录显示,这家全球光刻机霸主正经历前所未有的焦虑。当中国科学院宣布研发出全球首台全固态深紫外 (DUV) 激光器时,ASML 首席技术官范登布林克在内部备忘录中写道:"中国正以令人窒息的速度重构光刻机产业逻辑
2025 年 3 月,荷兰 ASML 总部的紧急会议记录显示,这家全球光刻机霸主正经历前所未有的焦虑。当中国科学院宣布研发出全球首台全固态深紫外 (DUV) 激光器时,ASML 首席技术官范登布林克在内部备忘录中写道:"中国正以令人窒息的速度重构光刻机产业逻辑
不过大家都清楚,虽然全球的芯片技术如此之先进,但中国大陆的芯片制造技术却落后好几代,目前我们公开的技术还在14nm,至于没公开的大家猜测最多也就是等效7nm。
周圣军指导了这项研究,他表示:“我们发现,所提出的前驱体调控策略,包括降低TMAl和TMGa的流速同时保持Al/Ga的比例,可以提高所生长p-AlGaN中的Al含量,并最大限度地减少碳杂质的掺入。因此,我们实现了1016cm-3超低碳浓度的p-Al0.8Ga0