翼存取得高精度投影曝光机自动调焦装置专利,简化调节系统并增加调节精度
国家知识产权局信息显示,翼存(上海)智能科技有限公司取得一项名为“一种高精度投影曝光机自动调焦装置”的专利,授权公告号CN222867000U,申请日期为2024年6月。
国家知识产权局信息显示,翼存(上海)智能科技有限公司取得一项名为“一种高精度投影曝光机自动调焦装置”的专利,授权公告号CN222867000U,申请日期为2024年6月。
自2020年以来,半导体产业链的国产化水平得到了飞速地提升,近日由工信部站台推广的ArF干式光刻机便是一例。同样在光刻材料的国产化中,光罩的国产化也十分引人瞩目。可以说在这五年里,中国大陆地区的本土光罩厂走过了从边缘到核心,从0.13微米到14纳米的蜕变和进化