纳米压印

东京理科大学等将紫外纳米压印技术应用于硅照片

纳米压印光刻（NIL）是一种使用纳米级印章的技术。与传统曝光方法不同，NIL 的优点是分辨率与曝光波长无关，并且具有大面积可转移性和高吞吐量的特点。出于这些原因，有望成为下一代半导体光刻技术之一。