又一家公司，想颠覆EUV光刻
由ASML打造的EUV光刻机是现代芯片不可或缺的重要生产工具。尤其是随着芯片工艺来到了3nm之后，EUV光刻的重要性与日俱增。ASML也通过提高NA的方式，引领EUV光刻机进入到High NA时代，以满足客户更严苛的需求。
立体角
了解辐射度（亮度）、辐照度和辐射通量
辐射源性能的评估必须涉及辐射测量——与辐射相关的量的测量。对于该领域的新手来说，辐射度、辐照度和辐射通量等单位和术语可能不熟悉。此外，诸如亮度、辐射功率、通量和强度等非标准术语也经常被随意使用而没有解释。最后，在讨论辐射测量情况时，诸如亮度之类的光度测量术语经