半导体专题| 选择性外延生长的历史回顾：从1962年至今
选择性外延生长(SEG)是当今关键的前端工艺(FEOL)技术之一，已在CMOS器件制造中使用了20年。英特尔在2003年的90纳米节点平面CMOS中首次引入了SEG技术，用于pMOS源/漏(S/D)应力器。它结合了抬升源/漏技术、凹槽刻蚀源/漏结形成技术以及硅
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手握巨资的大佬，举债下注！
这距离巴菲特2月22日发布2025股东信一个月时间还不到，彼时巴菲特在信中称，五家商社已同意放宽10%的持股上限，未来可能继续增持，并计划长期持有数十年。
中石化炼化工程（SEG）新签订单额达千亿元创新高（含EPC总承包）
近日,中国石化旗下的中石化炼化工程（SEG）发布了2024年度业绩，收入641.98亿元（人民币，下同），同比增长13.9%；新签订单合同量为1006亿元，首破千亿大关，创历史新高，同比增长25.4%；
滕哈格：新赛季前我不会接受任何工作；怀念的事？老特拉福德
北京时间2月24日，荷兰播客节目《SEG Stories》发布了滕哈格专访的预告片，其中，他谈到了自己的未来、对曼联的看法等问题，完整专访将于明天发布。