第六代双光束超分辨光刻机概念、技术和未来
集成电路的发展至今已有60余年，对更为强大性能芯片的追求使得芯片制造技术不断迭代升级。长期以来，基于紫外光源投影曝光光刻的芯片制造方法是大规模集成电路制造的唯一选择。然而，随着极紫外光刻机进入产线应用和不断性能优化，芯片制造已经进入了7nm及以下节点。对于摩尔
双光束
双光束水导激光高效耦合用于深度加工
中国科学院宁波材料技术与工程研究所、中国科学院大学材料科学与光电工程中心、宁波大学机械工程与力学学院、浙江工业大学机械工程学院的科研人员报道了双光束水导激光高效耦合用于深度加工研究进展。相关论文以“Efficient coupling of dual beam