一种新型光刻技术,突破EUV极限 初创公司Lace Lithography AS(挪威卑尔根)正在开发一种光刻技术,该技术使用向表面发射的原子来定义特征,其分辨率超出了极紫外光刻技术的极限。 光刻 euv 光刻技术 euv极限 卑尔根大学 2025-04-23 11:33 3