摘要：国家知识产权局信息显示，应用材料以色列公司取得一项名为“将晶片固定到吸盘”的专利，授权公告号 CN 222088563 U，申请日期为2024年2月。

金融界2024年12月4日消息，国家知识产权局信息显示，应用材料以色列公司取得一项名为“将晶片固定到吸盘”的专利，授权公告号 CN 222088563 U，申请日期为2024年2月。

专利摘要显示，公开了一种系 统，所述系统包括真空模块， 所述真空模块包括第一真空 源、第一真空传播路径、第二 真空源和第二真空传播路 径。第一真空源被配置为经 由第一真空传播路径向吸盘 提供第一真空水平的第一真 空。吸盘安装在机械台上。第 二真空源被配置为经由第二 真空传播路径向吸盘提供第二真空水平的第二真空第二真空 水平超过第一真空水平。吸盘被配置为向晶片施加第一真空或 第二真空中的至少一者。第一真空传播路径被配置为跟随吸盘 的移动。第二真空传播路径被配置为不管吸盘的移动如何都保 持静止。

来源：金融界