摘要：根据《中国激光》杂志今年第6期发表的一篇研究论文，中国科学院上海光学精密机械研究所的林楠团队，成功开发出了极紫外（EUV）光源实验平台，转换效率达到3.42%，处于国际靠前水平。这个消息就像一颗“科技炸弹”，让美国的封锁政策再次被狠狠打脸。原来，西方越是打压，

最近，中国半导体领域传来一个大消息，根据《中国激光》杂志今年第6期发表的一篇研究论文，中国科学院上海光学精密机械研究所的林楠团队，成功开发出了极紫外（EUV）光源实验平台，转换效率达到3.42%，处于国际靠前水平。这个消息就像一颗“科技炸弹”，让美国的封锁政策再次被狠狠打脸。原来，西方越是打压，中国自主创新的脚步反而越快，这次EUV技术的突破就是最好的证明。

EUV光源实验平台

一、EUV光源：高端芯片制造的“心脏”

EUV光刻机是制造7纳米以下先进芯片的核心设备，而光源又是EUV光刻机的“心脏”。目前全球只有荷兰ASML公司能生产EUV光刻机，但美国以“国家安全”为由，禁止ASML向中国出口。这就好比有人掐住了中国芯片产业的脖子——没有EUV光刻机，中国就无法量产高端芯片，手机、电脑、人工智能等领域都要受制于人。

中国激光杂志刊发的论文

林楠团队这次突破的，正是EUV光刻机的核心部件——光源。他们用固体激光驱动技术，替代了ASML使用的二氧化碳激光技术，不仅转换效率达到3.42%，超过ASML商用光源效率的一半，而且体积更小、成本更低。这就像是给中国芯片产业装上了一颗“中国心”，让我们离自主生产高端芯片更近了一步。

二、西方打压反而成了中国创新的“催化剂”

美国对中国半导体产业的打压由来已久。从限制华为使用美国技术，到逼迫ASML停止对华出口EUV光刻机，再到联合盟友搞“芯片四方联盟”，美国的目的很明确：通过技术封锁，阻止中国科技进步。但结果呢？美国的打压反而激发了中国的斗志。

光刻机原理

就拿林楠团队来说，他们的带头人林楠曾是ASML光源技术负责人，2021年放弃高薪回国。在他的带领下，团队只用了三年时间，就建成了国际领先的EUV光源实验平台。这就像武侠小说里的情节：被仇家逼到绝境，反而练成了绝世武功。美国的封锁，最终成了中国科技突围的“催化剂”。

三、ASML CEO的“嘴硬”与中国的“争气”

面对中国的突破，ASML CEO富凯却在4月的投资者会议上“嘴硬”：“中国可能造出EUV光源，但要造出完整的光刻机，还需要很多很多年。”这话听起来耳熟——当年美国封锁中国空间站技术，西方专家也说中国“至少需要20年”，结果中国用10年就建成了自己的空间站。现在ASML的“预言”，大概率也会被中国速度打破。

EUV光刻机

更讽刺的是，ASML一边跟着美国打压中国，一边又离不开中国市场。2024年，ASML在中国的销售额占全球总营收的36.1%，中国大陆首次成为其最大市场。这就像一个人一边骂你，一边又赚你的钱，这种“精神分裂”的做法，最终只会让ASML失去中国市场的信任。

四、中国EUV技术的“逆袭之路”

林楠团队的突破，只是中国半导体产业自主创新的一个缩影。过去几年，中国在芯片领域的投入堪称“砸锅卖铁”：国家大基金二期投入超2000亿元，华为、中芯国际等企业不计成本搞研发。这种“集中力量办大事”的模式，让中国在短时间内实现了多项技术突破。

比如，中芯国际用DUV光刻机实现了7纳米芯片的量产；长江存储攻克了232层3D NAND闪存技术；华为海思在被制裁后，依然推出了麒麟9000S芯片。这些成果都在证明：只要中国下定决心，没有什么技术难关是过不去的。

EUV光刻机

五、未来展望：从“跟跑”到“领跑”

虽然林楠团队的光源技术还落后于ASML的5.5%效率，但他们的理论最大效率接近6%，未来还有很大提升空间。更重要的是，中国在EUV技术上的突破，打破了ASML的技术垄断，让全球半导体产业链看到了新的可能性。

可以预见，随着中国EUV技术的不断成熟，ASML的市场份额可能会被逐步挤压。而美国的封锁政策，也会因为中国的自主创新而变得越来越无效。正如外交部发言人所说：“中国的科技发展，从来不是靠别人的施舍，而是靠自己的奋斗。”

结语：封锁越狠，中国越强

历史总是惊人的相似。当年美国封锁中国航天，中国建成了自己的空间站；封锁中国高铁，中国高铁里程全球第一；现在封锁中国半导体，中国又在EUV技术上实现突破。这些事实都在证明一个道理：西方的打压，只会让中国变得更强大。

林楠团队的故事，是中国科技逆袭的缩影。他们用行动告诉世界：中国人的脊梁，永远不会被压弯。未来，随着更多像林楠这样的科学家回国，更多像EUV光源这样的技术突破，中国半导体产业必将迎来真正的春天。而那些试图用技术封锁遏制中国发展的国家，最终只会搬起石头砸自己的脚。

来源：由之