摘要：专利摘要显示，本发明涉及用于测量从半桥(HB)的两个晶体管(T1、T2)之间的中心抽头(M)流过耗电器(L)的电流(I)的测量装置和方法，其中所述测量装置被配置为对于两个晶体管(T1、T2)，在相应的晶体管(T1、T2)导通时，在单独的测量通道(OMK、UMK

金融界2025年5月17日消息，国家知识产权局信息显示，舍弗勒技术股份两合公司申请一项名为“用于测量电流的测量装置和方法”的专利，公开号CN119998668A，申请日期为2023年9月。

专利摘要显示，本发明涉及用于测量从半桥(HB)的两个晶体管(T1、T2)之间的中心抽头(M)流过耗电器(L)的电流(I)的测量装置和方法，其中所述测量装置被配置为对于两个晶体管(T1、T2)，在相应的晶体管(T1、T2)导通时，在单独的测量通道(OMK、UMK)中分别测量该晶体管(T1、T2)的通道电阻两端的电压，其中每个测量通道(OMK、UMK)具有加法元件(AG)、低通滤波器(TPF)和模数转换器(ADC1、ADC2)，使得在每个测量通道(OMK、UMK)中，相应电压降的信号(SO、SU)能够经由所述加法元件(AG)和所述低通滤波器(TPF)输送到所述模数转换器(ADC1、ADC2)，其中每个测量通道(OMK、UMK)的加法元件(AG)被配置为将相应测量通道(OMK、UMK)的信号(SO、SU)与相应的另一个测量通道(OMK、UMK)的信号(SO、SU)相加。

来源：金融界