摘要：中芯国际正在测试由上海初创公司宇量昇所开发的DUV光刻机，该设备搭载了浸润式系统，可以制造14nm、7nm等制程工艺的芯片，甚至还可以通过多重图案化技术制造5nm芯片，这与ASML的浸润式DUV光刻机在技术上面如出一辙。

据美国科技媒体Wccftech转载《金融时报》的信息报道称：

中芯国际正在测试由上海初创公司宇量昇所开发的DUV光刻机，该设备搭载了浸润式系统，可以制造14nm、7nm等制程工艺的芯片，甚至还可以通过多重图案化技术制造5nm芯片，这与ASML的浸润式DUV光刻机在技术上面如出一辙。

参考资料：

China's SMIC Reportedly Testing Nation's First Self-Built DUV Machine in a Major Breakthrough That Could Scale Production to 5nm

自从美国对荷兰政府施压，对华封锁了EUV光刻机之后，中国企业又花费了大量资源从ASML采购了未被限制的DUV光刻机，这些设备在2022和2023年期间进行了集中交付。并且在同一年当中，中国的5G国产7nm芯片实现量产商用。

2024年，美国政府的新一轮制裁来袭，在之前的基础上实行DUV光刻机的出口限制，将NXT：1970i、NXT：1980i、NXT：2000i及以上型号这些较为先进的浸润式DUV光刻机全部封锁，切断ASML与中国市场的一切合作。

美国经济历史学家克里斯·米勒在其个人作品《Chip war》中写到：

中国第一步的发展方案是建立一个去美化的供应链体系，也就是在制造芯片的整个环节当中将美国供应商剔除，采用欧洲或者是亚洲的技术设备。建立一个尖端、全国范围内的供应链至少需要10年以上的时间，这段时间的投入成本将会超过1万亿美元，一上来就走纯国产供应链体系，相当不划算。

并且在2024年的世界知识论坛当中，米勒也提到了EUV光刻机是ASML吸纳了全球顶尖供应商，花费了30多年才完成的设备，是人类迄今为止在工业设备领域最复杂的产品。

光是制作光源部件就需要450000个零部件以上，如果将每一个零部件全部国产化，那么这个代价是不可估量的，除了必要的资金投入之外，还需要专业的技术人员和基础的资源供应，这是一项需要打持久战的工程。

荷兰科技记者马克·海金克几年前对ASML公司进行了专访，他采访了包括马丁·范登布林克、范霍特、彼得·温宁克在内的核心领导者。

据ASML的领导层表示，早在2018年和2019年的时候，ASML就已经发现中国的上海微电子公司正在攻克浸润式技术。该技术对于中国企业来说难度不小，哪怕是造出来了国产浸润式光刻机，距离投入生产线制造芯片也还需要一定的时间。

不过美国的制裁限制，给了中国企业机会，迫使许多中国企业开始投入大量的资金去抱团发展，解决卡脖子的困境。

中国的国产光刻机虽然较国际水平落后，但是在美国的封锁下，中国芯片公司会主动采用国产设备来制造芯片。在实际的制造中不断提升自身的技术水平，中国企业很有可能将会在眨眼间变得羽翼丰满，缩短与欧美国家的技术差距。

根据上海宇量昇所提交的年度报告显示，该企业是由深圳新凯来公司和上海创科微公司合资成立，双方各持股50%，在深圳建设有分公司，是具有庞大国资背景的半导体设备企业。

创科微的背后是上海科技创业投资公司，该公司也是上海微电子的第二大股东。

可以说宇量昇公司就是国家资源整合下的新企业，背后有上海微电子、国资、华为等企业部门的资源扶持。依托华为的消费者业务板块，将先进的芯片技术进行市场化发展，推动整个国产供应链快速前进。

以往的国产设备发展，其困难点不在于技术开发，而在于市场化发展。

设备是需要拿出来用的，是需要投入市场创造利益价值的，而不是放在实验室里和纸面的技术报告上。但是推动国产设备的市场化发展又需要企业的支持，国外的设备在性能和价格上优势巨大，这也就造成了国内的企业不愿意优先采用国产设备，产业链陷入死胡同。

这种局面需要有企业站出来支持国产设备，并且带动整个产业链变得活跃起来。

美国的制裁在一定程度上推动了国产自主设备的发展，但是也让中国设备企业出现了恶性竞争的情况，让研发国产设备变成了替代国产设备，同类型企业之间不断通过推出新产品来抢占国内市场，造成产业链抗风险能力大幅度下降。

中微半导体的董事长尹志尧先生在今年的半导体大会上面重点提到了这件事，并且呼吁国内的企业不要内卷，要分工明确的联合起来一起解决卡脖子的问题。

不管是新出现的新凯来，还是最近被爆出联合中芯国际测试国产DUV光刻机的宇量昇，其背后均有国家政府的力量支持，正在一步步推动国产供应链的正循环发展。

来源：反方向数码站