摘要：在光刻机方面，据2024年9月9号，工信部发布的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》显示，中国的氟化氩光刻机，已经实现了套刻≤8nm制程突破，这也就意味着从理论上来讲，该光刻机通过多重曝光的技术能够实现更先进制程芯片的制造，比如7nm，只

今年的两会，出现了不少的科技热词：数字经济、智能机器人、新能源汽车、大模型、5G规模化应用、算力资源布局等。

可见在2025年，从国家层面来讲，我们国家将会充分发挥宏观调控政策，大力支持民营科技创新与发展。

而在诸如光刻机研发与生产等风险高、重资产、且回款周期长的领域，我们国家也将投入大量资源，在各个领域实现逐个突破。

回顾2024年，我们国家在各个核心领域如光刻机、研磨材料、生产制造等各环节均实现了重大突破。

在光刻机方面，据2024年9月9号，工信部发布的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》显示，中国的氟化氩光刻机，已经实现了套刻≤8nm制程突破，这也就意味着从理论上来讲，该光刻机通过多重曝光的技术能够实现更先进制程芯片的制造，比如7nm，只不过效率可能会比较慢，这可能也在一定程度上解释之前华为mate60、70系列纯国产手机产能受限的原因所在。

而在光刻机整机生产及交付方面，上海微电子已宣布成功研制出90nm的光刻机，在关键部件如光源生产、光学系统及双工件台（当初ASML成立伊始的优势之一就在双工件台）已然实现了100%的零部件国产，而在售价方面也比荷兰的ASML售价要低40%。

2025年，上海微电子预计将交付100台光刻机，国内著名的NADA生产商长江存储及合肥长鑫等厂商已经预订超过50台，而这是我们国家迈向光刻机全部零件国产化的重要一步！

因为光刻机必须要实现商用，而不能仅仅停留于理论及研究层面，只有通过市场化的竞争，才能倒逼企业不断向更新的领域迈进。

而在光刻胶、掩膜版等配套材料方面，南大光电的ArF光刻胶通过中芯国际验证，可支持28nm制程。而清溢光电的掩膜版良率提升至90%，成功打破美国Photronics垄断地位，实现掩膜版国产化替代。

芯片生产本身就是集全球生产力而制造，当然，前期美国公司在芯片生产领域更多的是依赖本国的生产链，但是后来因为本国的人工成本过高，所以在美国本国只保留了芯片研发及设计的环节，而将芯片的制造环节全部转移到了亚洲如日本、韩国及台湾地区。

而自从ASML进军芯片产业之后，ASML的领导者突发奇想，因囿于其本国生产链比较薄弱，所以ASML的领导者想通过从全球采购的方式，实现光刻机的组装、生产及调试，如本国只负责生产双工件台，而镜头则是采用德国的蔡司镜头（当时的芯片巨头英特尔要求光刻机的镜头组件必须是德国的蔡司，因为英特尔认为蔡司的镜头是国际上最好的） 。

而我们国家想要生产出光刻机而不依赖于美国技术，这就意味着，在中国本土上，在芯片设计、材料、制造工艺等各个环节都要有媲美全球的科技企业，才能够生产出当前全球顶尖的芯片！

参考资料：

飙叔科技洞察：《产业破局！国产光刻机28nm实现90%国产化，实现出口50台！》

中国政府网：《最全！50个动态场景看2025《政府工作报告》全文》

文 | 暮光微晓破倾城

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来源：信息百宝囊