光刻技术，走下 “神坛”
光刻机，向来被视为半导体制造的命脉。但近期多家芯片巨头释放的信息显示，未来光刻技术可能不再是唯一选择，即便是很难抢到的High-NA EUV，也多处于“闲置”状态。
asml
ASML：正在开发下一代光刻机
Jos Benschop 表示，ASML和蔡司正在研究能够在一次曝光中打印分辨率高达 5 纳米的电路的机器设计，并补充说该技术将足够先进，可以满足 2035 年及以后的行业需求。
原子光刻横空出世：精度超EUV15年
原子光刻技术正以颠覆性姿态闯入芯片制造领域。挪威Lace Lithography公司研发的原子束直写技术，分辨率突破0.3纳米，相当于在头发丝截面上雕刻整部《红楼梦》，精度超越当前最先进EUV光刻机15年。这项技术不仅绕开ASML光刻机的物理极限，更将芯片制造
美国要不到稀土，围剿中国芯片？欧盟突然行动，暴露谁才是真赢家
美国刚拿到中国稀土就翻脸，突然对三星、台积电下狠手！欧盟一边抱怨中国“卡脖子”，一边连夜飞往北京谈判。这场围绕芯片与稀土的全球博弈，谁才是最后的赢家？
美国要不到稀土，就围剿中国芯片？欧盟突然行动，暴露谁才是真赢家
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ASML的下一步
荷兰半导体设备领导者ASML Holding NV 主导着极紫外 (EUV) 光刻技术，而这项技术是生产尖端半导体芯片的关键。随着行业向更小的节点迈进，以推动人工智能、5G 和下一代计算的发展。
EUV光刻机，要过七关
这里所说的薄饼指的是被粉碎的锡滴，它在 ASML 的光刻机中每秒被引爆五万次。这会产生等离子体，发射出极紫外 (EUV) 光：一种极紫外辐射，将高度精细的芯片图案投射到硅片或晶圆上。
颠覆性技术，让芯片制造速度提高15倍
为现代芯片制造商打造强大、可靠且可制造的光源是当今业界最复杂的挑战之一。在所有光刻系统制造商中，只有 ASML 成功研发出用于打印最小芯片特征的 EUV 光源——但一家初创公司却提出了一个颠覆现状的全新理念。
芯片 asml 光刻 semiconductor 粒子加速器 2025-06-11 00:20 4
颠覆性技术，让芯片制造速度提高15倍！
为现代芯片制造商打造强大、可靠且可制造的光源是当今业界最复杂的挑战之一。在所有光刻系统制造商中，只有 ASML 成功研发出用于打印最小芯片特征的 EUV 光源——但一家初创公司却提出了一个颠覆现状的全新理念。
芯片 asml 光刻 semiconductor 粒子加速器 2025-06-10 17:48 4
芯声：靠“海岛奇兵”迅速夺取台积电？不如重新造个新的
继5月12日中美日内瓦经贸会谈之后，中美关税战进入90天的休战期后，然而美国并没有就此罢手，中美科技战又重新成为焦点。就在会谈后的第二天，5月13日美国商务部正式发布文件，撤销拜登签署的《AI扩散规则》，同时宣布采取额外措施加强对全球芯片出口管制，包括禁止全球
靠“海岛奇兵”迅速夺取台积电？不如重新造个新的
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中美一通电话，马克龙改口、印度低头、光刻巨头急了，信号太强！
先是法国总统马克龙，前脚还在新加坡香会上对中国指手画脚，甚至夹带私货暗踩“一个中国”红线。结果呢？一看中美通话谈得欢，特朗普放软身段、中国释放善意（像批准美车企稀土供应、接收波音飞机），马克龙立马坐不住了！法国外长巴罗火急火燎打电话给我外长王毅。为啥这么急？细
国巨拟下周开始协商收购芝浦电子；ASML CEO称美国芯片出口禁令只会适得其反；超百家韩企有意集体向苹果谷歌索赔 | 新闻速递
国巨拟6月16日开始协商收购芝浦电子外媒预测台积电市值有望五年内突破3万亿美元，AI芯片市场成关键推手ASML首席执行官：美国芯片出口禁令只会适得其反四名英特尔顶级芯片架构师离职创业，押注RISC-V架构打造最强CPU超百家韩企有意集体向苹果谷歌索赔消息称中国
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荷兰无视美国施压，欲将光刻机出售给中国，中国对美做出两大反击
因为我国的芯片产业非但没有萎靡，反而实现产量大幅提升，仅是去年8月份，出口芯片就多达1800亿颗，此外，14nm芯片也已实现量产，全球十大晶圆代工厂中，中企已有7家。
阿斯麦CEO罕见发声：美国越挡路，中国越迎难而上
阿斯麦（ASML）被迫成为美国打压中国芯片的工具，让这家全球领先芯片制造公司很是心累。据美国《纽约时报》6月5日报道，ASML首席执行官克里斯托夫·富凯接受该报专访时警告说，美国芯片出口限制，不仅会削弱ASML在半导体行业的主导地位，还将适得其反，进一步促进中
ASML CEO：中国光刻机还有很长的路要走
上个月，特朗普总统宣布对销往美国的欧洲商品征收50%的关税，这可能会增加ASML光刻机的成本，而这些光刻机对于生产先进的微芯片至关重要。两天后，他暂停了关税。
新凯来高科技产品解析：国产半导体设备的突围之路
深圳新凯来技术有限公司作为中国半导体设备领域的"新锐国家队"，在2025年SEMICON China展会上首次高调亮相，推出覆盖半导体制造全流程的31款设备，其中包含28nm浸润式DUV光刻机和5nm DUA光刻技术等突破性产品。新凯来的设备虽不能完全解决高端
ASML申请用于显微镜学的ADC校准专利，补偿ADC的至少一个统计值之间的任何失配
国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于显微镜学的ADC校准”的专利，公开号CN120092397A，申请日期为2023年09月。