湿法刻蚀资讯

捷佳伟创涨0.21%，成交额1.62亿元，后市是否有机会？

2022年7月22日公司互动：TOPCon技术路线上推出的管式设备PE-poly也获得客户认可，中标了行业内头部客户的TOPCon电池项目。公司在TOPC0n、HJT、IBC、钙钦矿等多技术路线上都进行了设备技术的布局，推出了具有性价比优势的设备，并且都取得了

在半导体制造中，干法刻蚀（Dry Etching）和湿法刻蚀（Wet Etching）是两种主流的刻蚀技术，其原理和工艺特性不同，因此产生的缺陷类型也存在显著差异。以下是两者的主要缺陷及其成因和影响。

3月21日，英伟达创始人兼CEO黄仁勋再次穿着标志性皮衣亮相，发布了多款针对AI的最新技术。不同于以往AI只是针对于软件产品，这次英伟达还发布了用于先进制程芯片设计和制造，可以让计算光刻变的更“聪明”的加速技术。一时间让光刻机再次成为聚焦。

DIC.PPS自动驾驶的保护神DIC特种PPS材料随着汽车行业向电动化、网联化、智能化和共享化这"新四化"的转型，以及轻量化的不断推进，汽车部件的性能要求日益严苛。PPS（聚苯硫醚）以其卓越的耐热性、轻质特性和加工便利性，成为现代汽车设计中的优先选择。

在芯片制造的宏大舞台上，晶圆（Wafer）扮演着至关重要的角色。它如同一张洁白的画布，承载着无数工程师的智慧与梦想，见证着从砂砾到智能的奇迹之旅。晶圆不仅是芯片制造的基础材料，更是连接设计与现实的桥梁。在这张画布上，光刻、刻蚀、沉积等工艺如同精妙的画笔，将虚拟