euv光刻机

EUV光刻机,要过七关

这里所说的薄饼指的是被粉碎的锡滴,它在 ASML 的光刻机中每秒被引爆五万次。这会产生等离子体,发射出极紫外 (EUV) 光:一种极紫外辐射,将高度精细的芯片图案投射到硅片或晶圆上。

asml 光刻机 euv光刻机 euv arcnl 2025-06-17 10:35  5

中国突破EUV光刻机技术!打破荷兰ASML垄断

在全球半导体产业的核心战场上,极紫外(EUV)光刻机技术长期被荷兰ASML垄断,成为制约中国芯片自主化的“卡脖子”难题。然而,2025年春夏之交,中国半导体领域频传捷报:中科院上海光机所研发的固体激光驱动EUV光源能量转换效率突破3.42%,上海微电子的EUV

荷兰 asml 垄断 光刻机 euv光刻机 2025-05-26 18:20  7

周末重磅题材汇总:中国EUV光刻机技术取得突破性进展(付谷)

华为正式组建医疗卫生军团,这意味着华为将智慧健康产业纳入更高级的战略级别。据悉,新组建的医疗卫生军团或将整合华为在5G通信、云计算、边缘计算等领域的积累,依托昇腾计算架构与盘古大模型的技术底座,打造新一代智能医疗系统,将重点构建AI辅助诊断解决方案体系,推动医

等离子体 光刻机 euv光刻机 euv 季逸超 2025-03-09 18:50  12

EUV光刻机用很多偏微分方程

在 EUV 光刻机采用的通过高能脉冲激光打击锡液滴靶产生等离子体进而获得极紫外光源的过程里,锡液滴的流动行为受到多种物理因素交互影响。比如,一方面有外界施加的促使液滴喷射的压力、激光打击产生的瞬间冲击力等外力作用;另一方面,液滴自身存在的粘性、表面张力等内力因

光刻机 偏微分方程 euv光刻机 2024-11-27 14:02  12