euv光刻机资讯

EUV光刻机代码惊人：4500 万行，与 Win10相仿

鉴于 EUV 设备的复杂性以及 ASML 40 多年的开发经验，需要一个同样复杂的支持软件堆栈。我还猜测，ASML 的选择堆栈文档也有一些以客户为中心的需求。话虽如此，任何一家成立几十年的公司都有机会精简流程，所以我有点好奇 ASML 在这方面的文化是什么样的

深夜的复旦大学实验室灯火通明，科研人员举着一块指甲盖大小的金色芯片，向世界宣告：中国绕开西方封锁，用-豆腐上雕花-的极致工艺，造出了全球首款二维半导体芯片！

EUV里面最困难的一部分就是要如何产生极紫外光。这种极紫外光不是从日光灯光线里面折射出来的，它是要靠一种电浆，一种电浆发射出来波长大概在15纳米以下的光线才能够产生极紫外光。

在中美科技博弈的硝烟中，半导体设备禁运如同一把达摩克利斯之剑悬在中国芯片产业头顶。当ASML的EUV光刻机成为5nm以下先进制程的代名词时，中国工程师却在实验室里开辟出一条"去EUV化"的创新路径。

华为正式组建医疗卫生军团，这意味着华为将智慧健康产业纳入更高级的战略级别。据悉，新组建的医疗卫生军团或将整合华为在5G通信、云计算、边缘计算等领域的积累，依托昇腾计算架构与盘古大模型的技术底座，打造新一代智能医疗系统，将重点构建AI辅助诊断解决方案体系，推动医

他正用国产28纳米芯片给特斯拉车主改装中控系统，嘴里嘟囔着："老美做梦都想不到，他们卡脖子的光刻机，倒逼出了中国电子城的黑科技。

美国限制先进的AI芯片，先进的半导体设备，以及一些先进的软件、技术等进入中国市场。在美国看来，只要堵住这些设备、技术、软件，中国就不可能用手搓出芯片来。

一个一个摆上去肯定没戏，于是有了ASML这些公司，为的就是把这些二极管“印”上去，这玩意就叫平版印刷，也叫光刻。

在 EUV 光刻机采用的通过高能脉冲激光打击锡液滴靶产生等离子体进而获得极紫外光源的过程里，锡液滴的流动行为受到多种物理因素交互影响。比如，一方面有外界施加的促使液滴喷射的压力、激光打击产生的瞬间冲击力等外力作用；另一方面，液滴自身存在的粘性、表面张力等内力因