中国科技期刊卓越行动计划推介:《极端制造》2025年第1期
本封面展示了基于三维堆叠工艺的忆阻器神经形态芯片,其通过原子层沉积技术实现忆阻器阵列的垂直堆叠与集成,并模拟大脑工作,完成神经形态计算的任务。随着晶体管沟道尺寸逐渐逼近其物理极限,现有计算机普遍存在感知存储计算分离、功耗高等问题,导致神经形态系统的信息处理能效
本封面展示了基于三维堆叠工艺的忆阻器神经形态芯片,其通过原子层沉积技术实现忆阻器阵列的垂直堆叠与集成,并模拟大脑工作,完成神经形态计算的任务。随着晶体管沟道尺寸逐渐逼近其物理极限,现有计算机普遍存在感知存储计算分离、功耗高等问题,导致神经形态系统的信息处理能效
Jia X S, Luo J L, Li K, Wang C, Li Z, Wang M M, Jiang Z Y, Veiko V P, Duan J A. 2025. Ultrafast laser welding of transparent mater