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光学小知识 | 氮化硅谐振光学陀螺仪的原理与进展

随着自动驾驶汽车的发展，对不依赖GPS信号的微型光学陀螺仪的需求日益增长。在硅芯片上制造的氮化硅(SiN)谐振光学陀螺仪因具有超低损耗波导、小型化尺寸以及与CMOS工艺兼容等特点，成为满足这一需求的理想技术平台。

中微半导体设备（上海）股份有限公司，即中微公司，近期在半导体制造技术领域取得了显著进展。公司宣布，其ICP双反应台刻蚀机Primo Twin-Star®在提升反应台间气体控制精度方面实现了新的技术突破。

近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）宣布通过不断提升反应台之间气体控制的精度，ICP 双反应台刻蚀机 Primo Twin-Star® 又取得新的突破，反应台之间的刻蚀精度已达到 0.2A（亚埃级）。

近年来，随着5G通信、航空航天、智能汽车等领域的迅速发展，功率模块的应用越来越广泛，功率模块芯片也逐渐趋于小型化、集成化及高频化。这也就意味着，芯片在工作时，要产生更多的热量，这些积聚的热量使电路的工作温度急剧上升，高温环境不仅会影响芯片的工作效率，还会减少其

华林科纳半导体高选择性蚀刻是指在半导体制造等精密加工中，通过化学或物理手段实现目标材料与非目标材料刻蚀速率的显著差异，从而精准去除指定材料并保护其他结构的工艺技术‌。其核心在于通过工艺优化控制不同材料的刻蚀速率比，达到‌>5:1‌甚至更高的选择比标准‌。

氮化硅（Si3N4）已成为集成光电子技术的多功能材料，在近红外和可见光范围内具有低损耗和高透明度。这些特性使其非常适合生物传感、电信和量子计算等应用。然而，由于模式面积不匹配，高折射率对比度的Si3N4波导与光纤之间的高效光耦合仍然是一个挑战。本文探讨使用微转

光子集成电路正在通过实现更快的数据传输、推进量子计算技术、以及变革医疗行业来彻底改变多个领域。在材料和制造工艺的创新驱动下，光子集成电路有望重新定义光学技术的能力，并在数据和电信、汽车以及医疗传感等关键领域实现显著增长。

博主 @数码闲聊站今日透露，某厂超大杯的等深四曲屏是6.8" 2800*1280p 1.5K 8T LTPO，支持 4320Hz PWM + 圆偏振光护眼技术。

荣耀 rsr 氮化硅 2024-12-20 17:10 9

比利时和法国的研究人员利用微转移印刷（MTP）在氮化硅（Si3N4）光子学平台上集成了磷化铟（InP）激光增益材料 [Biwei Pan et al, Photonics Research, v12, p2508, 2024]。

恒州诚思（YH Research）调研发布的《2024-2030全球氮化硅陶瓷行业调研及趋势分析报告》深入而系统地审视了氮化硅陶瓷行业的全方位发展环境，详尽剖析了产业的基本现状，并前瞻性地探讨了该行业的未来发展前景，为氮化硅陶瓷行业的走向绘制了清晰的蓝图。作为