光掩膜（Photomask）又称光罩，是半导体制造过程中用于图案转移的关键工具，对于光刻工艺的重要性不弱于光刻机、光刻胶。掩膜版对下游行业生产线的作用主要体现为，利用掩膜版上已设计好的图案，通过透光与非透光的方式进行图像（电路图形）复制，将电路图案精确地转移到

显微镜 污染物 光掩膜 光掩膜表面 检测光掩膜 2025-04-23 11:09  3