掩膜方案

跨越摩尔定律，新思科技掩膜方案凭何改写3nm以下芯片游戏规则

电子发烧友网报道（文/黄山明）在半导体行业迈向3nm及以下节点的今天，光刻工艺的精度与效率已成为决定芯片性能与成本的核心要素。光刻掩模作为光刻技术的“底片”，其设计质量直接决定了晶体管结构的精准度。