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国产光刻胶的关键战场，在这里

在芯片制造领域，台积电和三星的先进制程竞争无疑吸引了最多的目光，人们也期待中国企业能够早日迎头赶上。但是对于中国晶圆代工产业来说，眼下更重要的一场竞争或许是在成熟制程（28nm及以上）领域。光刻胶是探讨这个问题的一个典型切口。截至目前，国产光刻胶产业仍然极其薄

科华光刻胶 arf 2025-01-07 18:31 4

国家知识产权局信息显示，牧东光电科技有限公司取得一项名为“种防止光刻胶脱落的滚轮装置”的专利，授权公告号 CN 222259841 U ，申请日期为 2024 年 5 月。

随着半导体器件的应用范围越来越广，晶圆制造技术也得到了快速发展。其中，光刻技术「链接」在晶圆制造过程中的地位尤为重要。光刻胶是光刻工艺中必不可少的材料，其质量直接影响到晶圆生产的效率和质量。本文将围绕着晶圆表面光刻胶的涂覆与刮边工艺展开研究，旨在进一步完善这一

特点：以酚醛树脂为成膜树脂，重氮萘醌化合物为感光材料，在436nm有较强的吸收，分辨率约为1.0um。与紫外宽谱光刻胶相比，由于曝光方式的改变，G线光刻胶具有较大的曝光宽容度（Exposure LatitudeL）和焦深（Depth of Focus,DOF）

因此光刻胶的重要性和稀缺性都不逊于战略物资，也是目前国际上争夺战最为激烈的关键材料之一。

12月3日，商务部发布“关于加强相关两用物项对美国出口管制的公告”：禁止两用物项对美国军事用户或军事用途出口；原则上不予许可镓、锗、锑、超硬材料相关两用物项对美国出口；对石墨两用物项对美国出口，实施更严格的最终用户和最终用途审查。

作为影响芯片精度和性能的核心原材料，光刻胶的重要性无可替代。遗憾的是，目前全球90%的光刻胶，均由日本企业供应。我国光刻产业的自给率曾经连1%都达不到，为了供应产业需求，只能每年光是进口光刻胶，就花费近160亿。

光刻胶引发剂是光刻胶中的一个关键成分，它在光刻过程中起到触发光化学反应的作用。光刻胶引发剂能够吸收光刻机发出的光线，通过光激发产生的电子或激发态分子，引发光刻胶中的化学反应，从而实现图形的转移和模式的定义。光刻胶引发剂的选择取决于所使用的光刻胶类型、光源波长和

各位邻居朋友们，今儿咱们得聊聊一件挺有意思的技术大事儿。这事儿啊，跟咱们平时用的手机、电脑里的存储芯片有着千丝万缕的联系。没错，就是三星公司最近在3D NAND闪存生产上搞了个大新闻——他们成功地大幅削减了生产过程中的光刻胶使用量！听起来挺专业的是吧？别急，我

三星 nand 光刻胶 2024-12-04 12:32 5

近日，业内消息传来，三星电子在3D NAND闪存生产的光刻工艺上取得了重要进展，成功大幅减少了光刻胶的使用量。这家韩国半导体巨头已经规划好了未来的NAND生产蓝图，目标是将光刻胶的使用量直接减半。

由于预计三星在 NAND 生产中削减成本的举措会导致订单减少，东进世美肯已实施了一项应急计划，其营收受到的影响预计会逐渐显现。据报道，董事长李辅燮（Boo-Sup Lee）已呼吁包括美源商事（Miwon Commercial）、三养化成（Samyang NC