摘要：光刻胶（Photoresist）是一种用于半导体制造中的关键材料，它在光刻工艺中起到了重要的作用。光刻胶是一种特殊的敏化树脂，能够对紫外光或电子束等辐射进行化学反应，形成可控的图案。
光刻胶（Photoresist）是一种用于半导体制造中的关键材料，它在光刻工艺中起到了重要的作用。光刻胶是一种特殊的敏化树脂，能够对紫外光或电子束等辐射进行化学反应，形成可控的图案。
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技术突破：国内唯一实现半导体i线光刻胶量产，核心原料光敏剂PAC自给率100%产能扩张：4500吨/年光刻胶产线8月投产，可覆盖8英寸晶圆需求订单增长：一季度光刻胶业务收入同比激增320%，毛利率达58%本文内容均来源于公开信息，所述任何观点仅代表个人思路，不构成投资建议，据此操作，风险自负，投资有风险，入市需谨慎
来源：骑牛笔记