反射层

EBR与WEE去边胶的区别?

WEE,全称:wafer edge exposure。在晶圆匀胶后,晶圆边缘的光刻胶会比中间区域的更厚,在后续的工序中会脱落造成污染,因此需要除去。而EBR,WEE,都是去除光刻工艺中晶圆边缘光刻胶的方法。

反射层 ebr wee 2024-12-24 22:14  3