朗姆研究公司取得在 3D NAND 结构上的原子层沉积专利
金融界 2025 年 5 月 9 日消息,国家知识产权局信息显示,朗姆研究公司取得一项名为“在 3D NAND 结构上的原子层沉积”的专利,授权公告号 CN113424300B,申请日期为 2019 年 12 月。
金融界 2025 年 5 月 9 日消息,国家知识产权局信息显示,朗姆研究公司取得一项名为“在 3D NAND 结构上的原子层沉积”的专利,授权公告号 CN113424300B,申请日期为 2019 年 12 月。
投身集成电路工艺与器件研究三十载,复旦大学微电子学院院长、党委副书记张卫,积极做“中国芯”核心技术的开拓者,行业领军人才培育的先行者。从青丝到华发,他躬耕三尺讲台,推动学科发展,所培养的集成电路领域核心技术人才遍布行业龙头企业。他带领科研团队攻坚克难、创新求索
要打造一颗芯片,从沙子开始,到拉成硅锭,再到切成晶圆,然后在晶圆厂中历经千锤百炼,再去到封装厂封装成最终的芯片,需要历经过千道工艺。而随着芯片的制程越来越先进,当中不少工艺对可靠性和度的要求越来越高。在这一背景下,原子层沉积(ALD:Atomic layer
2.1 按收入计,全球原子层沉积设备市场规模,2020-2031
自下而上合成策略是一类制备 SACs 的通用方法。它首先将金属前驱体吸附在特定的载体表面,随后通过多样化的还原技术,如共沉淀法、电化学沉积法、原子层沉积法、光化学法、浸渍法或球磨法等,将金属原子精确锚定于载体的缺陷位点,从而制备出 SACs。这一策略展现了对金
2025年3月26日至28日,全球半导体产业的目光聚焦上海,共襄SEMICON CHINA 2025行业盛会。江苏微导纳米科技股份有限公司(简称:微导纳米,股票代码:688147.SH)以创新之姿登场,重磅发布四款薄膜新产品:iTomic PEQ等离子体增强原
纳米 原子层沉积 cvd ald semiconchina 2025-03-31 08:57 7
3月26日—28日,备受业内瞩目的SEMICON CHINA 2025在上海新国际博览中心盛大举行,大会汇集全球半导体顶级行业领袖、国内外产业巨头、快速增长的新兴企业及众多权威人士,分享全球半导体产业格局、创新技术,共探半导体产业的未来发展趋势、技术革新与市场
核壳纳米粒子因其独特的表面和体积特性,在多个领域具有重要应用。通过改变壳层的厚度和材料,可以调节纳米粒子的性质。科罗拉多大学(Forge Nano 粉末原子层沉积技术发源地)Steven George 等人使用自行搭建的旋转床粉末原子层沉积设备和原子层刻蚀(A
电子发烧友网报道(文/莫婷婷)中国,作为全球最大的半导体消费市场,近年来在半导体设备领域取得了显著进展,不仅市场规模持续扩大,国产化率也逐步提升,同时涌现出一批具有竞争力的半导体设备厂商。就在近期的SEMICON China 大会上,新凯来展台现场火爆全场成为
在3月26日开幕的,SEMICON China 2025大会上,除了国产半导体设备龙头北方华创,重磅宣布正式进军离子注入设备、电镀设备市场,并发布首款离子注入机Sirius MC 313、12英寸电镀设备(ECP)Ausip T830之外。
直接原子层处理技术(DALP)先驱ATLANT 3D宣布在A+轮融资中成功筹集了1500万美元(1.08亿人民币)的新资本。本轮融资由West Hill Capital领投,继公司2022年完成A轮融资之后,再次证明了投资者对ATLANT 3D的技术潜力充满信
随着可穿戴设备需求的增加,温度感应能力成为柔性透明应用的一项基本功能。尤其是在日常生活中使用时,设备的长期稳定性是非常重要的。本文,韩国成均馆大学Ji Won Suk等研究人员在《Journal of Materials Science & Technolog
自2011年以来,瑞士连续13年全球创新指数排名第一,是全球重要的创新策源地,也是中国首个创新战略伙伴关系国,在创新发展和科技金融领域与中国具有极佳互补性。由Venturelab主办的“瑞士创新100强”,汇聚了最佳“瑞士制造”的初创及成长期科技创新企业,是瑞
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中等熵合金(MEAs)是一类新兴的合金材料,由三到四种主要金属元素以非等原子比组成,展现出独特的物理和化学性质。与传统的高熵合金(HEAs)相比,MEAs更易于形成单相固溶体,同时保持晶格畸变和协同效应,避免了相分离。这种合金因其在催化、机械性能等方面的潜在应