摘要:潮敏物料主要是指非密封封装的IC,受潮后主要失效模式为内部分层。在电子组装领域,潮敏元器件一直是影响产品质量和可靠性的关键因素之一。这些元器件受潮后容易出现各种失效问题,给生产过程带来了诸多挑战。
潮敏物料主要是指非密封封装的IC,受潮后主要失效模式为内部分层。在电子组装领域,潮敏元器件一直是影响产品质量和可靠性的关键因素之一。这些元器件受潮后容易出现各种失效问题,给生产过程带来了诸多挑战。
潮敏元器件失效现象描述
1.QFN元器件内部分层
QFN(无引脚四方扁平封装)元器件是一种常见的潮敏元器件。在某次生产中,发现某单板上的QFN元器件出现内部分层现象。该元器件位于单板角落,无机械装配应力影响,且为单板上唯一的MSL3(潮敏等级3)物料。单板采用铜基板,焊接温度较高,可能存在热应力问题。测试结果显示,该单板的不良率达到100%,初步推测为潮敏失效。
2.高分子钽电解电容冒锡珠
在生产巡检中,发现某单板的高分子钽电解电容附近出现大量锡珠。这些锡珠集中在电容负极偏顶部的位置,且位号不固定。高分子钽电解电容通常被归类为MSL3物料,其内部结构和材料特性使其容易受潮。初步推测锡珠的出现与焊接过程中的潮敏问题有关。
失效情况验证与机理分析
1.QFN分层机理分析
通过对QFN元器件进行超声扫描,发现分层位置主要集中在关键区域(绑定区),导致绑定点断开或缺陷。尽管该元器件为MSL3物料,但车间暴露时间远低于允许值,因此潮敏并非唯一原因。进一步与IC厂家沟通后发现,铜基板和炉温等因素对该区域产生了应力,导致分层。此外,该元器件内部芯片采用45°旋转设计,增加了耐热温度和应力。
验证方案包括对比不同焊接工艺和烘烤条件下的元器件失效情况。实验结果显示,烘烤可以降低失效率,但无法完全解决问题;减少焊接或采用SnPb焊料则可以完全解决分层问题。因此,QFN元器件的分层问题是由潮敏和应力双重因素共同作用导致的。
2.高分子钽电解电容锡珠机理分析
高分子钽电解电容的锡珠现象与常规焊接过程中的锡珠不同,锡珠固定发生在电容本体上,且位置较为固定。分析认为,锡珠的产生与物料受潮有关。受潮后,在高温焊接时产生瞬间蒸汽压力,导致塑封层裂纹和锡珠溢出。验证方案包括对受潮物料和库房原包装物料进行切片分析。结果显示,受潮物料过炉后出现锡珠和塑封层裂纹,而原包装物料无分层开裂情况。因此,锡珠的产生与物料受潮密切相关。
失效原因综合分析
从上述两种潮敏元器件的失效现象来看,虽然都表现为分层问题,但产生的原因并不完全相同。QFN元器件的分层主要由应力主导,潮敏和炉温等因素为辅;而高分子钽电解电容的分层则主要与物料受潮有关。根据IPC-J-STD-020标准,不同状态的分层接受程度不同,主要通过信赖性测试来判断其是否影响性能。
1.QFN封装元器件分层
通过实验验证,采用E-PAD(热沉焊盘)不焊接或替换为SnPb焊料,可以有效解决QFN元器件的分层问题。分析认为,E-PAD焊接后会产生裂纹,而SnPb焊料的焊接温度低,热应力更小。因此,QFN元器件的分层问题主要是由应力引起的,潮敏和炉温等因素起到了辅助作用。
2.高分子钽电容锡珠
高分子钽电容的锡珠现象是其受潮后的显性表现。受潮物料在高温再流焊后,内部高分子材料容易产生裂纹,导致锡珠溢出。因此,解决该问题的关键在于避免物料受潮。
改善建议与措施
1.QFN分层问题改善
元器件改善:增加PAD(焊盘)的法兰盘尺寸,增强焊盘结合强度。
工艺改善:优化钢网开孔方式,不焊接中间焊盘,或采用有铅焊接,改变应力分布状态。
2.高分子钽电容锡珠问题改善
保持原包装上线:尽可能在车间暴露寿命时间内加工完成。
超出暴露寿命时间的物料处:若无法烘烤重置车间寿命,需厂家配合烘烤。
车间管控:避免拆除原包装等操作,规避物料受潮风险。
3.改善措施
潮敏元器件的分层失效并非完全由受潮导致,还可能与应力、焊接工艺等因素有关。分层问题并非都不可接受,需根据标准和信赖性测试结果判断其对性能的影响。潮敏元器件的失效问题往往是多种因素共同作用的结果,需要综合分析并采用多种改善手段解决。非IC物料也可能存在潮敏问题,同样需要进行严格管控。对于受潮后的高分子钽电容,虽然适当烘烤可以减少失效几率,但仍存在分层失效风险,不建议二次使用。来源:金鉴实验室