掩膜

突破!28nm全国产光刻机杀疯了

在光刻机方面,据2024年9月9号,工信部发布的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》显示,中国的氟化氩光刻机,已经实现了套刻≤8nm制程突破,这也就意味着从理论上来讲,该光刻机通过多重曝光的技术能够实现更先进制程芯片的制造,比如7nm,只

asml 掩膜 双工 光刻机 28nm 2025-03-12 16:22  5

什么是高选择性蚀刻

华林科纳半导体高选择性蚀刻是指在半导体制造等精密加工中,通过化学或物理手段实现目标材料与非目标材料刻蚀速率的显著差异,从而精准去除指定材料并保护其他结构的工艺技术‌。其核心在于通过工艺优化控制不同材料的刻蚀速率比,达到‌>5:1‌甚至更高的选择比标准‌。

掩膜 刻蚀 氮化硅 蚀刻 氧化硅 2025-03-12 17:03  6

无金属掩膜版RGB自对位像素化技术

无金属掩膜版RGB自对位像素化技术(简称ViP技术)是维信诺公司全球首发的创新显示技术,通过半导体光刻工艺取代传统精细金属掩膜版(FMM),在AMOLED制造中实现了突破性进展。以下从技术特点、优势及应用三个方面详细解析:

rgb 掩膜 金属掩膜 2025-02-08 20:40  10

2024年超30项Micro LED关键技术进展一览

这一年,Micro LED技术持续发展,产业内合作频繁,据LEDinside不完全统计,2024年新增合作案例已达17起。特别是在AR眼镜领域,Micro LED技术应用取得显著进展,全年新发布的Micro LED AR眼镜已达到8款,进一步推动了该技术在可穿

led microled 掩膜 2024-11-29 15:24  10