上海积塔半导体申请基于沟槽栅的IGBT器件及其制备方法专利,减小IGBT晶圆内饱和压降Vcesat值离散性
国家知识产权局信息显示,上海积塔半导体有限公司申请一项名为“基于沟槽栅的IGBT器件及其制备方法”的专利,公开号CN 119132950 A,申请日期为2024年9月。
国家知识产权局信息显示,上海积塔半导体有限公司申请一项名为“基于沟槽栅的IGBT器件及其制备方法”的专利,公开号CN 119132950 A,申请日期为2024年9月。
长晶科技本次推出了FST3.0(对标国际Gen7.0) 650V和1200V系列的三款IGBT单管,主要用于光伏储能等应用。
随着技术的不断进步,SiC IGBT器件的封装材料进一步优化,以满足更严苛的应用需求,推动电力电子装备向高效化、小型化方向发展?。近日,第十届国际第三代半导体论坛&第二十一届中国国际半导体照明论坛(IFWS&SSLCHINA2024)在苏州召开。